Occasion ASML PAS 2500 / 40 #9234700 à vendre en France

ASML PAS 2500/40 est un pas de plaquette qui sert à modeler avec précision des couches minces de photorésist sur une plaquette semi-conductrice. La machine est capable d'obtenir une précision de +/- 15nm et une résolution latérale de 5nm, ce qui la rend idéale pour les applications de lithographie de pointe. L'ASML PAS 2500/40 utilise un équipement d'éclairage propriétaire hautement automatisé et une optique avancée pour générer ses motifs. Le système dispose d'un illuminateur de type projection qui utilise une source lumineuse haut débit et de forte puissance combinée à une lentille haute NA pour fournir avec précision un faisceau lumineux cohérent à la plaquette. Le faisceau est dirigé à travers un séparateur de faisceau et optique pour modeler précisément la plaquette. La machine dispose également d'un mode Advancedzoom ASML très efficace, qui optimise le champ d'éclairage sur la zone d'exposition. Ceci assure une exposition à la lumière uniforme et adaptée à la couche de résine photosensible de la plaquette. Il contribue également à améliorer la précision, la répétabilité et la productivité, car l'uniformité de l'image est maximisée quelle que soit la taille du substrat. Afin de garantir des résultats précis en lithographie, PAS 2500/40 dispose également de capacités d'alignement et d'étalonnage avancées. L'unité utilise un alignement avancé des plaquettes, un enregistrement de prise de vue et une machine de contrôle numérique des processus d'exposition. Ensemble, ces caractéristiques sont conçues pour s'assurer que chaque motif est créé avec précision et que les plaquettes peuvent être facilement transférées d'un poste d'exposition à un autre. L'outil offre la flexibilité d'exposer une grande variété de substrats avec une gamme de conditions d'exposition et de résolution d'exposition. En outre, PAS 2500/40 a la capacité de passer rapidement entre les expositions et les tailles de fonctionnalités, assurant un traitement efficace et un traitement rapide des processus. ASML PAS 2500/40 est également capable de contrôler la dose d'exposition, ce qui garantit que la dose d'exposition délivrée à la plaquette est appropriée et cohérente. Cela augmente la précision du processus d'exposition, réduit le besoin de retravailler et améliore la disponibilité des outils. En outre, la machine comprend un atout automatisé de collecte de données et de stockage sécurisé des données, permettant aux utilisateurs d'accéder aux données sur l'exposition et l'intégrité des plaquettes. En résumé, ASML PAS 2500/40 est un pas de plaquette avancé qui combine précision et précision pour fournir une solution de lithographie de haute valeur. Ses caractéristiques le rendent particulièrement adapté aux tâches de fabrication dans l'industrie des semi-conducteurs et d'autres industries qui nécessitent une exposition et un alignement précis.