Occasion ASML PAS 2500 / 40 #9245669 à vendre en France

ASML PAS 2500/40 est un équipement avancé d'étape de plaquettes développé pour les procédés de lithographie tels que la génération de photomasques pour la fabrication de micropuces et de plaquettes. Le dispositif est un système pas à pas qui fournit une précision d'exposition au niveau du nanomètre et une couverture d'exposition uniforme. L'unité est conçue pour des procédés de fabrication et de lithographie de photomasques rapides et précis. Il peut traiter une taille maximale de substrat de 355mm x 455mm, avec la précision de recouvrement maximale actuelle de 0.5um. ASML PAS 2500/40 est équipé d'un moniteur d'ammoniac pour la surveillance continue en temps réel des conditions de gaz de procédé pour une production de plaquettes optimisée. La plate-forme comprend un certain nombre de fonctionnalités avancées telles qu'un servomoteur haute vitesse, un étage de précision nanométrique de 12 pouces, et une machine d'éclairage de pointe. L'outil d'éclairage se compose d'un laser semi-conducteur monté sur un étage linéaire de haute précision et peut être ajusté avec précision pour des images uniformes, à haute résolution et tranchantes. PAS 2500/40 est conçu pour fonctionner avec plusieurs types de photomasques et de plaquettes, y compris les plaquettes standard de 6 pouces et 8 pouces, les plaquettes 2D et 3D avec jusqu'à 5 couches, et les plaquettes minces de silicium. L'appareil peut être utilisé en combinaison avec une large gamme d'optiques d'entrée, de processus et de sortie, y compris par ArF, KrF et I-Line. PAS 2500/40 intègre un certain nombre de fonctions sophistiquées de robotique et d'automatisation qui aident à améliorer le rendement des processus et à réduire les changements et les temps d'arrêt. Ceux-ci comprennent le déchargement automatique de la cassette, le positionnement et le chargement, et la commande automatique de l'obturateur. Un contrôle logiciel spécifique au processus est également disponible. ASML PAS 2500/40 est capable de traiter plusieurs plaquettes et photomasques dans des environnements de production à haut volume. En fournissant une plate-forme de lithographie robuste et fiable, l'actif contribue à garantir les plus hauts niveaux de qualité et de rendement des plaquettes pour une grande variété d'applications de fabrication et de lithographie de plaquettes.