Occasion ASML PAS 2500 / 40 #9275932 à vendre en France

ASML PAS 2500/40 est un équipement de lithographie en projection UV profonde conçu pour les besoins avancés en lithographie de la fabrication de semi-conducteurs. Il intègre une optique de projection UV profonde avancée, des systèmes de génération de motifs et d'alignement, ainsi qu'un étage de substrat pour assurer la précision et la précision du processus de lithographie. Le système avancé d'optique de projection UV profonde est basé sur des conceptions de réseaux et de monochromateurs et est capable de fournir une variété de formats d'image, de résolutions et de grossissements allant de 10:1 à 1000:1. L'optique offre un contraste de 5nm, ce qui permet à l'unité de répondre à la plupart des besoins actuels en lithographie et aux exigences du processus. Les systèmes de génération et d'alignement de motifs de la machine intègrent de multiples sources de motifs tels que des masques de précision, des barils remplis de photorésist et des dispositifs numériques à micromiroirs (DMD). Ils offrent un large éventail de types de motifs et de répétabilité, ainsi que la précision et la stabilité. De plus, l'ASML PAS 2500/40 fournit la précision requise pour les motifs d'image dans la gamme de contraste de 8nm. L'outil dispose également d'un étage de substrat sophistiqué, qui est équipé d'asservisseurs pour permettre une précision et une répétabilité plus élevées avec les erreurs de gigue les plus faibles possibles. Il fournit un mouvement x, y, θ rapide, précis et répétable du substrat, tout en conservant une précision et des performances optimales. Le PAS 2500/40 prend également en charge un certain nombre d'applications avancées, telles que le double marquage et l'inspection des défauts, ainsi que les tests de qualification des procédés. En outre, son interface conviviale et ses paquets dédiés de contrôle et de métrologie offrent une multitude de fonctionnalités pour faciliter la mise en œuvre même des processus de lithographie les plus avancés. Dans l'ensemble, PAS 2500/40 est un pas avancé de wafer UV profond qui offre des performances très précises et précises pour une variété d'applications dans la fabrication de semi-conducteurs. Il combine un large éventail de fonctionnalités et de capacités, allant de ses actifs avancés en optique de projection UV profonde et des systèmes de génération et d'alignement de motifs, à son étage de substrat sophistiqué et son interface conviviale, garantissant que les tâches de lithographie les plus complexes peuvent être accomplies rapidement et efficacement.