Occasion ASML PAS 2500 / 40 #9285750 à vendre en France

ASML PAS 2500/40 est une machine de photolithographie binaire pas à pas de 193 nanomètres, largement utilisée dans la fabrication de plaquettes utilisées dans la production de puces informatiques et d'autres composants électroniques. ASML PAS 2500/40 est capable de produire des motifs sur des plaquettes de tailles allant de 100mm à 200mm avec une taille de filière maximale de 8 « x 10 ». PAS 2500/40 utilise un équipement optique mobile, avec une paire de lentilles sextuple qui permettent un système optique changeable. L'objectif fournit une imagerie haute résolution et des performances optiques constantes, ce qui rend l'appareil adapté à la production à grande vitesse. L'utilisation de développeurs liquides permet à la machine de faire des expositions en écriture directe d'une gamme de doses d'exposition avec une exposition à très faible énergie. PAS 2500/40 utilise une combinaison d'une source de rayons X, d'une source laser et d'un mandrin de plaquette commandé par pas. La source de rayons X est utilisée pour éclairer la plaquette, tandis que la source laser est utilisée pour diriger la dose d'exposition à la plaquette. Le mandrin de plaquette contrôlé par pas permet à la plaquette de se déplacer pendant l'exposition, de sorte que les étapes individuelles du processus d'exposition peuvent être effectuées avec précision. ASML PAS 2500/40 dispose également de plusieurs technologies de pointe telles que AutoFocus et Autoalign, permettant l'imagerie automatique et l'exposition avec une très grande précision et uniformité. L'outil dispose également d'un Scan-Focal Plan Slitting Asset, permettant d'effectuer simultanément une série d'étapes d'exposition des plaquettes. En outre, ASML PAS 2500/40 dispose d'un processus de balayage contrôlé par logiciel, qui minimise le nombre d'expositions pour une couche donnée. La machine dispose également d'une large gamme d'outils de métrologie qui permettent un contrôle optimal du processus et l'optimisation. PAS 2500/40 est un pas de plaquette extrêmement fiable et polyvalent et est capable de fournir une grande précision, répétabilité et robustesse dans les applications de photolithographie et de test les plus exigeantes.