Occasion ASML PAS 5000 / 400 #293817886 à vendre en France

ASML PAS 5000 / 400
Fabricant
ASML
Modèle
PAS 5000 / 400
ID: 293817886
i-Line stepper Numerical Aperture (NA): 0.48-0.65 Resolution: 280 nm DCO: 70 Throughput (WPH): >96.
ASML PAS 5000/400 est un équipement de pointe conçu et fabriqué par ASML, un fournisseur leader d'équipements de photolithographie pour l'industrie des semi-conducteurs. Cet outil de pointe est spécialement développé pour la production en grand volume de circuits intégrés avec des noeuds de technologie avancée dans les installations de fabrication de semi-conducteurs. Le PAS 5000/400 intègre des technologies et des caractéristiques innovantes permettant de modéliser avec précision les nano-échelles des plaquettes de silicium, garantissant ainsi des niveaux élevés de performance et de productivité. Composants clés et spécifications : L'ASML PAS 5000/400 comprend plusieurs composants clés qui fonctionnent de manière synergique pour obtenir une modélisation précise des dispositifs semi-conducteurs. Ces composants comprennent un système de lentilles de projection, un étage réticulaire, un étage de plaquette, une unité d'alignement et une machine d'éclairage. L'outil est conçu pour accueillir des plaquettes de silicium de 12 pouces, permettant une production à haut débit de puces sur des substrats plus grands. Le PAS 5000/400 dispose d'une lentille de projection sophistiquée qui est optimisée pour l'imagerie haute résolution et le transfert de motifs sur la plaquette. Le modèle de lentille consiste en plusieurs éléments de lentille qui sont précisément alignés pour minimiser les aberrations et les distorsions, assurant une réplication précise des motifs du réticule sur la surface de la plaquette. L'ouverture numérique élevée (NA) de la lentille de projection permet à l'équipement d'obtenir une résolution de sous-microns, cruciale pour la réalisation de dispositifs semi-conducteurs avancés avec des règles de conception serrées. L'étage réticulaire et l'étage de plaquette en ASML PAS 5000/400 sont équipés de mécanismes avancés de positionnement et d'alignement pour assurer un recouvrement et un enregistrement précis entre les différentes couches du dispositif semi-conducteur. L'étage réticulaire maintient le photomasque (réticule) contenant le motif à transférer, tandis que l'étage tranchant positionne la plaquette de silicium pour l'exposition. Un contrôle précis des mouvements des étages, associé à des systèmes de rétroaction avancés, permet au système d'obtenir une précision d'alignement des sous-nanomètres, essentielle pour le traitement multicouche dans les procédés semi-conducteurs avancés. L'unité d'alignement dans PAS 5000/400 utilise des marques d'alignement sophistiquées sur le réticule et la plaquette pour assurer un positionnement précis des motifs pendant l'exposition. La machine intègre des algorithmes avancés de reconnaissance d'image et de correction d'alignement, permettant à l'outil de compenser les erreurs de désalignement et d'assurer un enregistrement précis des motifs. Les capacités d'alignement à grande vitesse de l'actif contribuent au débit global et à la productivité dans la fabrication de semi-conducteurs. De plus, le modèle d'éclairage de l'ASML PAS 5000/400 joue un rôle critique dans le contrôle de la dose d'exposition et de l'uniformité des plaquettes. L'équipement dispose de modes d'éclairage programmables, tels que l'éclairage classique et annulaire, pour adapter les conditions d'exposition en fonction des exigences spécifiques du processus de lithographie. Cette flexibilité permet aux fabricants de semi-conducteurs d'optimiser les conditions d'exposition pour différents types de motifs et tailles de caractéristiques, assurant un transfert de motifs de haute fidélité sur la plaquette. Dans l'ensemble, le système PAS 5000/400 représente une solution de pointe pour la fabrication de semi-conducteurs à haut volume, combinant une optique de pointe, un positionnement de précision et des technologies d'alignement innovantes pour permettre la production de circuits intégrés complexes avec des caractéristiques nanométriques. Sa haute résolution, sa précision et sa productivité en font un outil indispensable pour les fabricants de semi-conducteurs qui s'efforcent de rester à la pointe des progrès technologiques dans l'industrie.
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