Occasion ASML PAS 5000 / 50 #293620128 à vendre en France

ASML PAS 5000/50 est un pas de plaquette automatisé très précis conçu pour les procédés avancés de lithographie utilisés dans la production de semi-conducteurs. Sa manipulation sensible et l'imagerie haute résolution du processus de gravure des électrodes permettent d'obtenir des images microscopiques extrêmement précises sur la plaquette de silicium pour des structures 3D complexes. L'ASML PAS 5000/50 dispose d'un équipement d'imagerie avancé de 4k qui permet une résolution précise de 12 nanomètres. La technologie de positionnement optique embarquée vérifie la position de la plaquette avec une précision nanométrique, permettant des résultats précis à chaque fois. Il dispose également d'une « fonctionnalité temps réel » intégrée qui permet de mesurer des structures à des profondeurs variables, réduisant ainsi le nombre d'itérations lors des étapes critiques du processus de lithographie. PAS 5000/50 a également une vitesse de traitement élevée pour un fonctionnement efficace. Son algorithme avancé peut réduire les temps de traitement jusqu'à 30 %, ce qui accélère considérablement l'ensemble du processus de lithographie. En même temps, il est conçu pour garantir une précision constante quel que soit le temps d'exécution. PAS 5000/50 est conçu pour être extrêmement stable, et son système de suppression des vibrations de l'air élimine le bruit du flux d'air. En outre, son unité de transport de plaquettes est conçue pour manipuler les plaquettes en douceur, évitant ainsi toute contrainte sur les composants délicats à l'intérieur de la plaquette. Enfin, le programme de contrôle convivial de la machine est conçu pour permettre aux opérateurs de contrôler facilement l'appareil avec un minimum d'effort. En conclusion, ASML PAS 5000/50 est un pas de plaquette automatisé très efficace avec des capacités d'imagerie avancées et une résolution précise. Sa vitesse de traitement élevée et sa conception stable permettent des résultats rapides et précis avec un minimum d'effort. En offrant une technologie de lithographie extrêmement précise, ce dispositif est idéal pour la production moderne de semi-conducteurs.