Occasion ASML PAS 5000 / 50 #9282384 à vendre en France

L'ASML PAS 5000/50 est un pas de plaquette conçu pour permettre un traitement lithographique précis des dispositifs semi-conducteurs avancés. Il offre plusieurs fonctionnalités qui lui permettent de créer des modèles de haute qualité et haute résolution à des débits souvent plus rapides que les marchands concurrents sur le marché. ASML PAS 5000/50 a une conception d'optique brevetée qui utilise une combinaison de cinq microns de résolution de pas et d'optique télécentrique. Cette conception permet une lithographie très précise avec une variation de processus très faible en raison d'une précision d'étape constante. Le stepper dispose également d'une lampe Xenon de 1000 watts qui est réglable pour faire varier l'énergie du faisceau d'exposition pour produire des détails fins ou un débit plus élevé. Cela aide à réduire le temps d'exposition pour les processus à haute résolution qui augmente le débit. Le stepper utilise un étage de format compact qui peut être utilisé pour modifier la forme de l'image d'exposition. Cela permet une plus grande flexibilité de conception et des temps d'exposition plus courts. Il permet également d'assurer une précision répétable et des expositions de haute performance. PAS 5000/50 dispose d'un système d'alignement automatisé qui utilise des systèmes de détection vidéo double. Cela permet un alignement rapide et précis des petites zones d'exposition, ce qui garantit des temps d'exposition rapides et réduit les rejets. Le stepper dispose également d'un système de positionnement de haute précision qui fournit une précision supplémentaire même dans les environnements de production à haut débit. Cela aide à réduire les temps d'exposition et de mouvement, permettant un débit plus élevé. Le dispositif offre également une grande taille de tampon qui assure un degré élevé de motifs d'exposition sans avoir à augmenter les temps de cycle. La taille du tampon est également réglable, ce qui permet une flexibilité et une productivité en fonction du résultat souhaité. Enfin, le PAS 5000/50 comporte au total cinq étapes de processus contrôlées de manière indépendante. Ce système hautement configurable permet un débit et une précision élevés lors de l'exécution de processus complexes en plusieurs étapes. En résumé, ASML PAS 5000/50 wafer stepper offre une optique de pointe et une technologie d'exposition qui donne aux utilisateurs le potentiel pour une résolution plus élevée, plus de vitesse, et plus de flexibilité lors de la création de modèles. Cela fait de l'ASML PAS 5000/50 un pas de tranche haut de gamme pour la fabrication de semi-conducteurs.