Occasion ASML PAS 5000 / 55 #9068441 à vendre en France
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Vendu
ID: 9068441
i-Line Stepper
Software version: 3.1.0
Reticle size: 5"
Lens Data:
Wave length: 365nm (i-line)
NA: 0.48
Resolution: 0.50µm
Field Size Diameter: 21.2mm
Max X: 15mm
Max Y: 19mm
Usable Depth of focus: ≥1.2µm at specified resolution of 0.50µm with 10% CD Control and > 83° wall angle
Distortion: 100nm
Currently stored in a cleanroom.
ASML PAS 5000/55 wafer stepper est un équipement de lithographie avancé utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il s'agit d'un dispositif d'imagerie de précision, capable de réaliser des motifs sur des plaquettes semi-conductrices avec une précision subpixel. La machine dispose du système d'alignement Synchroscope propriétaire, une technologie unique qui combine l'alignement d'images multiples prises par une caméra CCD et un microscope électronique à balayage, permettant une superposition précise des images multiples. PAS 5000/55 utilise une unité de projection NA (ouverture numérique) élevée, permettant à la machine de produire des motifs de petites tailles. En outre, l'outil dispose d'un atout automatisé pour gérer et optimiser le processus d'exposition, assurant une imagerie précise de la conception à la production. Ce modèle est également capable de chevaucher les expositions, ce qui permet des temps de production plus rapides et une production de dispositifs semi-conducteurs plus efficace. ASML PAS 5000/55 intègre également une variété de fonctions de lithographie avancées, y compris l'alignement des plaquettes et la sélection des images. La machine peut être configurée pour utiliser soit l'éclairage de champ sombre ou des éclairages de champ lumineux, et est équipée d'une gamme complète de lentilles et de masques d'ouverture. L'équipement peut être programmé pour effectuer l'alignement de la plaquette et un système d'autofocus laser est inclus pour assurer une imagerie précise et précise. Cette unité peut traiter plusieurs tailles de plaquettes, de 2 pouces à 300 mm, et peut être utilisée dans le traitement à la fois simple et double côté. La machine dispose également d'une machine de surveillance intégrée qui comprend des fonctions d'inspection et de métrologie, et d'un outil de marquage automatisé qui aide à assurer l'alignement entre le substrat et le masque. Un actif d'inspection en ligne est également inclus dans le paquet, permettant la correction rapide des plaquettes et la reconnaissance des motifs. PAS 5000/55 wafer stepper est un modèle de lithographie robuste, fiable et avancé pour la fabrication de semi-conducteurs. Il fournit des résultats de lithographie précis et reproductibles pour différentes tailles d'appareils, et est conçu pour fournir une productivité élevée et des rendements améliorés. Cet équipement convient aux petites et grandes séries de production, du prototypage à la fabrication en grand volume.
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