Occasion ASML PAS 5000 / 55A #293817881 à vendre en France

ASML PAS 5000/ 55A est un pas de plaquette utilisé dans la fabrication de circuits intégrés sur plaquettes semi-conductrices. C'est une machine de lithographie haut de gamme qui utilise une technique « overscan »/« underscan » et une large gamme de fonctionnalités avancées pour produire une qualité d'image optimale. L'ASML PAS 5000/55 A utilise une méthode de lithographie étape-répétition faisant appel à un équipement fixe basé sur deux axes. Il dispose d'un mécanisme de positionnement à grande vitesse avec une vitesse maximale totale de 500 mm/s pour une précision d'alignement de planche de grand format. Il est également équipé d'un système de positionnement optique haute résolution, capable de résolution 0,1 microns et d'une précision de 0,5 microns. PAS 5000/ 55A dispose d'une source d'énergie plasma ou quad qui est idéale pour le masquage et l'exposition. Il dispose d'un faible budget thermique afin d'assurer une température optimale pour le processus d'exposition. L'unité optique aérienne dispose également de paramètres réglables à grande échelle, réglant à la fois le niveau de puissance d'entrée et de sortie pour optimiser la résolution et l'uniformité de la couche embarquée. En optique, PAS 5000/55 A est équipé d'une machine optique télescopique et d'optiques et de lentilles à haute résolution, capables d'imager jusqu'à 0,7 microns. Il comprend également un interféromètre laser pour la mesure de la frange, l'amélioration de la linéarité inhérente à l'actif et permettant un ciblage précis de l'alignement. ASML PAS 5000/ 55A est composé d'une puissante source d'éclairage Xenon et d'un réseau optique optimisé. Il est également équipé d'un enregistreur de masque polyvalent et de systèmes automatisés d'optimisation de l'exposition. Enfin, un logiciel intuitif est inclus pour contrôler et gérer la machine. Dans l'ensemble, l'ASML PAS 5000/55 A est un pas de plaquette performant offrant une technologie de lithographie de pointe et une architecture de modèle avancée. Il est capable de répondre aux exigences des procédés semi-conducteurs de niveau avancé et est essentiel pour la production de circuits intégrés de pointe.