Occasion ASML PAS 5500 / 100 #293814116 à vendre en France
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ASML PAS 5500/100 est un pas de tranche haut de gamme conçu pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs. Développé au début des années 1990, l'ASML PAS 5500/100 offre une méthode de fixation de plaquettes de haute précision et rentable - une étape critique dans la production de composants semi-conducteurs. PAS 5500/100 dispose d'un champ de vision de 5,5 pouces à double éclairement avec une ouverture numérique de 6,25 pouces de haut. Propulsé par un laser argon-ion de 50 kHz, ce stepper offre des capacités de mesure exceptionnellement précises. En plus, l'Empreinte Directe ArF-à-laser faite breveter de l'équipement (LDI) le système livre le paquet de l'environnement à une haute performance avec un 200μm la profondeur de foyer. PAS 5500/100 dispose également d'un mécanisme avancé de manutention des plaquettes qui permet un alignement précis des surfaces des plaquettes. Cette fonctionnalité est encore améliorée par une unité automatisée de pré-alignement qui peut localiser avec précision les défauts existants sur la plaquette. Une motorisation linéaire réduit encore le désalignement entre l'étage et l'obturateur. En outre, l'ASML PAS 5500/100 dispose d'un outil de programmation avancé qui simplifie le processus d'établissement des motifs. Cet atout utilise un logiciel de modèle basé sur PC, permettant aux ingénieurs de concevoir et de mettre en œuvre des modifications de conception complexes avec un minimum d'effort. ASML PAS 5500/100 est conçu pour un débit extrêmement élevé, avec une sortie maximale de 100 plaquettes par heure. Cet équipement offre également une moyenne de filière à filière exceptionnellement élevée avec un taux de 25-30 secondes par filière. Dans l'ensemble, PAS 5500/100 est un pas de plaquette incroyablement fiable et précis. Ce système offre une combinaison imbattable de composants de haute précision, peu coûteux et la plus grande fiabilité. Avec PAS 5500/100, les ingénieurs peuvent être assurés que leurs tâches de fixation des plaquettes seront accomplies avec un minimum d'effort et un maximum d'efficacité.
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