Occasion ASML PAS 5500 / 100 #293817876 à vendre en France
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ID: 293817876
i-Line stepper
Numerical Aperture (NA): 06
Resolution: 400 nm
DCO: 60
Throughput (WPH): 60.
ASML PAS 5500/100 est un pas de plaquette utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. C'est une machine très précise utilisée pour transférer des couches structurées sur la surface d'une plaquette de silicium. Cela aide à réduire la taille des composants, permettant une densité plus élevée et la miniaturisation des circuits intégrés. ASML PAS 5500/100 est un équipement de lithographie avancé équipé d'un outil d'exposition à la projection optique. Il est capable de projeter un motif focalisé sur la surface d'une plaquette de silicium à résolution atomique proche. Ceci est fait à l'aide de plusieurs cadres, chacun avec son propre motif, pour éviter les problèmes causés par le mouvement d'exposition. Le substrat est placé dans la table de substrat mobile et le système de lithographie est focalisé sur le substrat. L'unité est équipée d'une plate-forme d'exposition à semi-conducteur, ou maskplate. Le maskplate contient une série de structures structurées qui définissent le motif à projeter. Chaque cadre individuel sur le maskplate a son propre motif et cela est utilisé pour créer un motif d'exposition plus grand sur le substrat. Le PAS 5500/100 est également équipé d'une source lumineuse pour la projection. Il s'agit typiquement d'une source lumineuse laser telle qu'une lampe à arc. La source lumineuse est programmée pour produire un faisceau lumineux précisément focalisé qui est ensuite projeté sur les motifs d'exposition des masques. La machine est également équipée d'un contrôleur d'exposition. Ce contrôleur est utilisé pour ajuster les paramètres d'exposition tels que le temps d'exposition, l'intensité et l'énergie. Ces paramètres sont utilisés pour ajuster la taille, la forme et la précision du motif projeté sur le substrat. PAS 5500/100 contient également un outil de balayage, qui est utilisé pour déplacer le substrat sous les têtes d'exposition. Ceci est utilisé pour permettre l'exposition de différentes parties du substrat, permettant à l'actif de projeter des motifs sur de multiples surfaces. Enfin, le modèle contient un équipement de commande de plaquettes. Ceci est utilisé pour contrôler la précision de position et les paramètres d'exposition pour chaque plaquette. Il est utilisé pour définir les paramètres de focalisation, de temps d'exposition, d'intensité et d'énergie afin d'assurer une projection cohérente et de haute qualité des motifs sur la surface du substrat. En conclusion, ASML PAS 5500/100 est une machine très précise utilisée pour transférer des motifs sur la surface d'une plaquette de silicium. Il contient un certain nombre de composants, dont un masque, une source lumineuse, un contrôleur d'exposition, un système de balayage et une unité de contrôle des plaquettes, qui lui permettent d'atteindre une résolution atomique proche dans sa projection de motifs sur le substrat.
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