Occasion ASML PAS 5500 / 100C #293750016 à vendre en France

ASML PAS 5500/100C est un pas de plaquette, un dispositif d'alignement et d'imagerie de précision utilisé pour modeler des plaquettes de silicium alignées dans la fabrication de puces semi-conductrices. Il est conçu pour fonctionner avec 193nm immersion étapes de lithographie DUV. ASML PAS5500/100C dispose d'un étage avec une grande taille de champ de 2 000 x 2 500 mm avec un mouvement d'étage de grande précision à longue distance sur l'ensemble du champ. Il a une répétabilité élevée, et peut imprimer à partir d'une exposition unique jusqu'à 25 couches alignées avec au moins deux fois la résolution des systèmes précédents. Le stepper a un temps de balayage rapide de 2,1 secondes pour un seul champ ou même 1,7 s en utilisant la fonction de balayage de champ variable. PAS 5500/100C comprend un laser de 433 nm, un équipement de détection optique et un système d'alignement automatique. Le laser permet de créer des repères d'alignement minimum de 200 nm, adaptés aux applications les plus avancées de la lithographie pas à pas. L'unité de détection optique ajuste automatiquement la puissance laser et l'exposition pour optimiser le contraste de l'image en fonction des matériaux, des caractéristiques et de la conception de la pile. De plus, PAS5500/100C comprend une machine d'alignement de masque GEM, une source d'exposition haute performance et un contrôleur de balayage à grande vitesse. L'outil d'alignement de masque GEM augmente la précision de l'actif en utilisant un microscope électronique à balayage. La source d'exposition est évaluée jusqu'à 100W, ce qui permet une imagerie à haute résolution à forte dose d'exposition. Le contrôleur de balayage s'assure que le stepper est capable d'imiter des motifs complexes à pleine résolution grâce à la technologie de traitement du signal numérique de pointe. En outre, ASML PAS 5500/100C a intégré le contrôle de la température et la surveillance de l'humidité. Le régulateur de température permet au modèle de fonctionner dans des environnements de -20 ° C à + 50 ° C alors que la plage d'humidité est maintenue entre 20 et 85 %. L'équipement de sécurité intégré assure la protection des utilisateurs finaux en surveillant et signalant en permanence tout environnement de travail dangereux et en arrêtant le système si un risque est détecté. Pour permettre une production efficace, ASML PAS5500/100C dispose de deux automates pour charger les puces de manière efficace. Il dispose également d'une capacité Advanced Process Protocol (AP2), permettant au fabricant de puces d'améliorer l'efficacité du processus de production en cartographiant à l'avance les chemins des plaquettes. En conclusion, PAS 5500/100C fournit une technologie avancée d'étape de tranche de précision pour 193nm étapes de lithographie DUV d'immersion. Il peut scanner des motifs complexes avec une grande répétabilité et précision, tout en offrant un grand champ de 2000 x 2500mm. Son contrôle intégré de la température et de l'humidité assure un environnement de fonctionnement sûr, tandis que les deux automates assurent un chargement efficace des puces. En outre, la capacité AP2 permet d'améliorer l'efficacité de la production en cartographiant à l'avance les chemins des plaquettes.