Occasion ASML PAS 5500 / 100C #293822312 à vendre en France

ASML PAS 5500/100C est une machine pas à pas en plaquettes, capable de processus de photolithographie et d'imagerie de haute précision. Il s'agit d'une étape et de répétition d'équipements de fabrication conçus pour la production de semi-conducteurs, de dispositifs optoélectroniques et d'autres matériaux d'imagerie. Ce système utilise un étage extrêmement précis pour déplacer une plaquette sous un ensemble fixe d'éléments de lentille qui projettent un motif sur la plaquette. Le motif est typiquement défini par un programme d'ordinateur. ASML PAS5500/100C est un pas de plaquette avec une unité optique avancée. Il intègre deux lentilles à ouverture numérique élevée avec un total de huit lentilles. La première lentille fonctionne comme une lentille de champ tandis que les sept autres lentilles agissent comme des lentilles d'imagerie. Les objectifs d'imagerie sont composés de sept lentilles asphériques DLAP (Diffractive Laser Advanced Reing) qui permettent à la machine d'obtenir une précision supérieure et une taille de tache minimale d'un micron. PAS 5500/100C dispose d'une commande numérique par ordinateur (CNC) qui permet à la machine de répéter avec précision les motifs sur la surface de la plaquette. L'outil comporte également deux étages motorisés, permettant un déplacement dans les axes x, y et z. Le CNC est équipé d'un contrôleur de mouvement multi-axes et d'un outil de contrôle de rétroaction de haute précision pour plus de précision et de répétabilité. PAS5500/100C est livré avec une bibliothèque de motifs prédéfinis qui permettent un traitement rapide et facile de divers matériaux. Il dispose également d'un logiciel de traitement d'images qui permet une personnalisation complète des images à partir des données fournies par l'utilisateur. Le logiciel permet également au modèle de stocker et de rappeler des emplois antérieurs, fournissant un traitement plus rapide des commandes. ASML PAS 5500/100C est capable de produire des motifs de taille allant d'un micron à plus de 750 microns. Sa capacité de haute résolution fournit les rapports d'aspect les plus élevés possibles, permettant une imagerie précise et précise. La précision de cet équipement est encore améliorée par son logiciel d'alignement propriétaire. Ce logiciel aligne automatiquement les réticules sur la plaquette pour une efficacité maximale. ASML PAS5500/100C est un système d'imagerie avancé qui offre une précision maximale et un potentiel d'imagerie de la plus haute qualité. C'est une unité compacte et fiable qui offre une production rapide et rentable. La machine est très évolutive, ce qui la rend parfaite pour une production de grand volume et une large gamme d'applications. La machine offre également la résolution et la précision les plus élevées, parfaites pour les applications les plus difficiles.