Occasion ASML PAS 5500 / 100C #9228851 à vendre en France

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Fabricant
ASML
Modèle
PAS 5500 / 100C
ID: 9228851
Stepper Uniformity: % 22x22 mm: </= 1.6 14.7*27.4mm: </= 1.6 Intensity: >/= 850 mW/cm^2 Lamp Life: 1500W: </= 150 hrs Dose repeatability & accuracy: </= 1 Reticle masking black border size: </= 475 Image performance: Astigmatism: </= 0.35 Focal plane deviation: </= 0.45 UDOF @ 0.40 um lines: >/= 1um Focus / Leveling: Focus repeatability focus: </= 50nm Rx: </= 3 urad Ry: </= 3 urad FOCAL: Valid positions ≧ 14 Best focus < ± 0.2 um Image tilt Rx < ± 5 urad Image tilt Ry < ± 5 urad Image distortion (lens): Max X (NCE): </= 60nm Max Y (NCE): </= 60nm Magnification: </= 2 ppm Rotation: </= 2 urad Symmetrical T: </= 10 nm/cm2 Trapezoidal: </= 10 nm/cm2 Overlay performance: Stage repeatability Max x: </= 15nm Max y: </= 15nm Single machine: </= 60nm 2-NA Global overlay: NA=0.48 NA=0.57 Prealigner accuracy: Edge sensor X (3sig): </= 8.5um Y (3sig): </= 8.5um Rotation (3sig): </= 180 urad Edge sensor: SD Y < ± 2.1 um SD Rot < 45 urad SD X < ± 2.1 um Mark sensor: SD Y < ± 2.1 um SD Rot < 45 urad SD X < ± 2.1 um Image quality control (3sig): Focus: </= 50 nm Image Rx: </= 2 urad Image Ry: </= 2 urad Translation: </= 20 nm Magnification: </= 2 ppm Rotation: </= 2 urad Throughput (70) Shots at 200 mJ, 8": >/= (70) Wafers / Hour Reticle exchange time: </= 29 Seconds System reliability: > 500 PCs Particle: 0.2um < 10ea Laser output: Alignment laser: > 12 mw Interferometer HP laser: > 220 μw Missing parts: MVR Rack power supply Lens bag inactivity Workstation hard disk (2) ACU Air pipes Wafer handler elevator: 3/4 Cover.
ASML PAS 5500/100C est un pas de plaquette utilisé principalement pour projeter des masques sur une gamme de substrats. Il est largement utilisé dans les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, solaire, et les écrans plats. Il dispose d'une gamme de caractéristiques conçues pour maximiser le débit tout en minimisant le bruit et d'autres facteurs défavorables ; par exemple, l'équipement offre un temps de repositionnement inférieur à 0,9 seconde, assurant des temps d'exécution rapides pour les travaux. Ce système contient également des capteurs environnementaux qui permettent une surveillance intelligente de l'atmosphère ambiante, permettant une réponse et un contrôle de la température, de la statique et de l'humidité. L'unité est compatible avec une gamme de sources optiques et lumineuses, y compris les sources laser ArF, les sources de lumière UV profonde, et plus encore, assurant que les travaux de toutes tailles et complexité peuvent être achevés. Il contient également des fonctionnalités spécialisées requises pour des tâches telles que le traitement OPC et l'impression de points. Sa conception modulaire permet aux utilisateurs d'échanger librement et de configurer leur équipement en fonction de leurs besoins, garantissant une efficacité maximale. La machine est conçue avec une robotique avancée pour minimiser les vibrations, verticalement et horizontalement, assurant des motifs précis et des images de haute qualité. Son outil de refroidissement très efficace assure une répartition uniforme de la chaleur des particules dans l'enceinte pendant le traitement pour une qualité de surface uniforme. De plus, son atout avancé de scatteromètre laser est conçu pour fournir un degré élevé de précision, assurant que les images sont constamment alignées aux niveaux de sous-microns. ASML PAS5500/100C dispose d'un contrôle de mouvement ultra-rapide, capable de fonctionner à des fréquences allant jusqu'à 2kHz. Sa conception très sensible assure des temps de réponse rapides pour réagir aux commandes de contrôle de l'opérateur pour des réglages immédiats. Le modèle contient également une bibliothèque complète de profils et une gamme d'autres fonctionnalités pour le contrôle total du processus d'imagerie. En outre, il est conçu avec de nombreuses caractéristiques de sécurité, telles que la sécurité d'arrêt, la détection des objets soulevés et la détection des collisions. Ce pas de plaquette est conçu pour une polyvalence maximale, avec une gamme de caractéristiques qui le rendent adapté à une variété d'applications. Sa gamme de caractéristiques le rend très fiable et efficace, un facteur clé de sa popularité auprès des fabricants de dispositifs en silicium.
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