Occasion ASML PAS 5500 / 100D #9212923 à vendre en France

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Fabricant
ASML
Modèle
PAS 5500 / 100D
ID: 9212923
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
Stepper, 8" Illumination: Uniformity: 22.0 x 22.0mm [%]: ≤1.5 14.7 x 27.4mm [%]: ≤1.5 Intensity: 900 mw/cm2 Dose repeatability and accuracy [%]: ≤1.0 Dose matching [%]: ≤2.0 Imaging: UDOF (0.4nm) [um]: ≤1-0 Overlay: Global overlay: 99.7% of all errors Day 1 [nm]: X<60, Y<60 Day 2 [nm]: X<60, Y<60 Day 3 [nm]: X<60, Y<60 Stage accuracy [um]: X<15, Y<15 Material handling: Prealign accuracy X pos [3Σ][um]: ≤8.5 Prealign accuracy Y pos [3Σ][um]: ≤8.5 Prealign accuracy Φ pos [3Σ][urad]: ≤180 Distortion: Lens distortion [nm]: X ≤ 60, Y ≤ 60 Magnification [ppm]: ≤ 2.0 Die rotation [urad]: ≤ 2.0 Symmetrical [nm/cm2]: X≤ 10 Trapezoidal [mn/cm2]: Y≤ 10 1996 vintage.
ASML PAS 5500/ 100D est un pas de lithographie UV profond conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Le stepper est capable de produire des caractéristiques aussi petites que 70 nanomètres (nm) sur l'électronique avancée des noeuds. L'équipement dispose d'une large gamme d'options de personnalisation et est capable de manipuler jusqu'à cinq plaquettes par heure. Le stepper est construit sur une plate-forme de scène XYZ et utilise une source de lampe à arc long pour projeter une série de motifs sur la plaquette. La plate-forme utilise une piste de plaquettes segmentée pour augmenter la productivité, permettant l'utilisation de multiples plaquettes indépendantes en même temps. L'ensemble optique piloté par ordinateur projette plusieurs images qui sont alignées les unes sur les autres et converties en un motif composite « maître ». Le stepper utilise un système d'étalonnage d'étape de pointe et une plaquette de qualification de niveau 2 (étendu) garantie. La fonction de surveillance de position des plaquettes en temps réel (RPM) aide à maintenir l'alignement et la précision sur les projets de traitement en utilisant à la fois le logiciel scanner et les composants matériels. Le stepper dispose également d'une unité d'exploitation intégrée, l'Eclipse OS, pour des performances optimales et le contrôle de l'utilisateur. La machine dispose d'une large gamme de fonctionnalités et de flexibilité, qui peuvent être adaptées à des applications spécifiques. Cela inclut les logiciels pour la gestion des doses, la métrologie basée sur l'image, l'optimisation des processus et la manipulation automatisée des plaquettes. Il peut également être programmé pour la surveillance, l'analyse et le suivi des données locales et à distance. ASML PAS 5500/100D est conçu pour répondre aux exigences de la lithographie de processus avancée. Sa taille compacte, ses performances supérieures et ses options personnalisables le rendent idéal pour de nombreux procédés de production de puces et de semi-conducteurs avancés. Il combine précision, stabilité et abordabilité, et est l'outil parfait pour de nombreuses applications de fonderie et de concepteur de puces.
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