Occasion ASML PAS 5500 / 100D #9228177 à vendre en France
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Vendu
ID: 9228177
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
Stepper, 8"
Illumination:
Uniformity:
22.0 x 22.0mm [%]: ≤1.5
14.7 x 27.4mm [%]: ≤1.5
Intensity: 900 mw/cm2
Dose repeatability & accuracy [%]: ≤1.0
Dose matching [%]: ≤2.0
Imaging:
UDOF (0.4nm) [um]: ≤1-0
Overlay:
Global overlay: 99.7% (All errors)
Day 1 [nm]: X<60, Y<60
Day 2 [nm]: X<60, Y<60
Day 3 [nm]: X<60, Y<60
Stage accuracy [um]: X<15, Y<15
Material handling:
Prealign accuracy X pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Y pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Φ pos [3Σ][urad]: ≤180
Distortion:
Lens distortion [nm]: X ≤ 60, Y ≤ 60
Magnification [ppm]: ≤ 2.0
Die rotation [urad]: ≤ 2.0
Symmetrical [nm/cm2]: X≤ 10
Trapezoidal [mn/cm2]: Y≤ 10
1996 vintage.
ASML PAS 5500/ 100D est l'un des paliers de plaquettes les plus avancés et les plus fiables pour les applications de photolithographie sur le marché aujourd'hui. Ce stepper est capable de fournir des performances de processus de classe mondiale sur une gamme complète de tailles de fonctionnalités. ASML PAS 5500/100D dispose d'une conception modulaire permettant une flexibilité et une évolutivité maximales. Il est construit avec un équipement optique de pointe qui est conçu pour l'alignement de précision haut de gamme et l'exposition. Ce système est conçu pour la modulation d'amplitude et de phase de la lumière d'exposition, offrant une excellente résolution spatiale et une plage dynamique maximale. Le PAS 5500/100 D dispose également d'une plate-forme d'alignement et de recouvrement entièrement automatisée qui permet de mesurer et de vérifier rapidement le recouvrement en temps réel. Cette plate-forme permet à l'utilisateur de surveiller et de contrôler le traitement complet du masque à travers la plaquette. Les moteurs et entraînements linéaires améliorés permettent un mouvement lisse, précis et répétable. Le stepper comprend également des contrôles avancés, des fonctions de surveillance et de diagnostic qui fournissent un contrôle précis et un processus sûr. Le stepper est également livré avec une unité d'enregistrement et d'alignement de haute précision qui intègre un double ensemble de moteurs linéaires à 4 axes et un codeur. Cette machine est conçue pour un enregistrement et un alignement très précis et stable pendant le processus d'exposition. Le stepper dispose également d'un certain nombre de technologies avancées de manutention des plaquettes telles que le nettoyage et l'inspection des plaquettes, l'alignement des plaquettes et des cadres, la vérification des plaquettes et des cadres, la reconnaissance des plaquettes et la reconnaissance des bords résiduels des plaquettes. PAS 5500/100D est également équipé de systèmes de sécurité avancés conçus pour assurer la sécurité du personnel et la manutention des plaquettes. Le stepper comprend un outil de prévention des incendies et un actif de libération d'aérosols qui peut arrêter les étapes de traitement si nécessaire. Le stepper a également été conçu pour protéger contre les conditions environnementales qui pourraient endommager les composants optiques sensibles du modèle ou affecter le processus de la plaquette. Le stepper garantit également des performances maximales pour les structures cristallines ainsi que pour les structures amorphes. PAS 5500/ 100D est un choix parfait pour toutes les applications de photolithographie nécessitant un fonctionnement précis et fiable.
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