Occasion ASML PAS 5500 / 1100 #293668650 à vendre en France
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Vendu
ID: 293668650
Taille de la plaquette: 8"
ArF Scanner, 8"
Wavelength: 193 nm
Wafer type: Notch
SMIF
Illumination source: Laser
CYMER NL-7600 Laser
IRIS Reticle
ATHENA Alignment system
Narrow alignment mark
Reticle blue align
Focus system: Enhanced 8
(24) Character barcodes
Grid mapper
QUASAR illumination
PEP Image screening
AUX Port wafers
Beam delivery system
Stand alone workstation
ESI Air filtration
Cabling
Does not include Hard Disk Drive (HDD).
ASML PAS 5500/1100 est un équipement pas à pas de plaquettes utilisé pour la fabrication de circuits intégrés sur plaquettes. Le système stepper est composé d'un microscope d'alignement, d'une optique de projection et d'un module stepper avancé (ASM). Le microscope d'alignement est un microscope optique spécialisé avec des capacités de haute résolution utilisées pour aligner précisément le photomasque et la plaquette. L'optique de projection offre une imagerie haute résolution du photomasque sur la plaquette permettant un alignement très précis des caractéristiques pour le processus de lithographie. L'ASM est chargée de contrôler finement le mouvement de l'étage qui tient à la fois le photomasque et la plaquette afin de créer le motif désiré sur la plaquette. L'ASML PAS 5500/1100 est conçu pour permettre une disposition flexible d'un maximum de douze modules de processus différents, les modules ASM, microscope et optique de projection étant partagés entre eux. L'unité pas à pas peut être exploitée à la fois par étape et par balayage, la machine utilisant une configuration à deux colonnes pour séparer la fonction de balayage et d'alignement en mode balayage. L'outil dispose d'un étage XY qui permet à la tête d'étape de se déplacer et de positionner avec précision le photomasque et la plaquette l'un par rapport à l'autre. L'ASM fournit une commande en boucle fermée pour des mouvements très précis dans le plan XY et le réglage de focalisation pour répondre aux exigences de lithographie d'une large gamme de plaquettes. L'actif est conçu pour avoir une commande indépendante en boucle fermée pour chaque module, ce qui permet des réglages très précis et une stabilisation maximale de chaque module pendant la production. Le pas a un grand champ de vision qui peut supporter un grand nombre de motifs sur la plaquette et l'étage de la plaquette est conçu pour être faible kV et sans vibrations pour supporter des processus avancés. PAS 5500/1100 offre une grande performance, précision et fiabilité. Le modèle a une taille de pas programmable et peut augmenter jusqu'à 6000 μ m en X et Y et offre une précision d'exposition de +/- 1,5 μ m. Il offre également une imagerie de haute qualité, avec une résolution de 39nm, un fonctionnement efficace et des temps de cycle améliorés. En plus de ces caractéristiques, l'équipement de pas de plaquettes dispose d'un réseau robuste de capteurs intégrés, y compris des capteurs de température, d'humidité relative et de vibrations, ainsi que de divers systèmes de caméras, qui aident à surveiller l'environnement et à maintenir une température de cyclage et une humidité optimales. Le système est surveillé à tout moment pendant le processus lithographique, ce qui permet une optimisation continue du processus. Enfin, PAS 5500/1100 propose aux ingénieurs des outils avancés d'automatisation et de contrôle pour optimiser leurs processus et atteindre les normes de qualité les plus élevées.
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