Occasion ASML PAS 5500 / 1100 #9219196 à vendre en France
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Vendu
ID: 9219196
Taille de la plaquette: 8"
ArF Scanner, 8"
193nm Lithography
Signal tower: Local
SPM Alignmet: Standard
Optical prealign mark sensor: Standard
Wafer type: Notch
FAT Attendance
Laser type: CYMER Laser
Extended exposure
IRIS Reticles, 6"
Cassette elevator position: 1 / 2
Wafer track interface: TEL Mark 5 / 7 / 8 / ACT8
SECS I / II Interface
Batch streaming: Advanced RMS
Tape streamer OCU-MK4
Single reticle SMIF handling
Sign all
Reticle SMIF pod tag reader: Stepper version
Metrology data interface
Reticle barcode reader 24 char
Extended exposure translation
ASF E-Chuck flatness qualification
ASF Application specific lensheet
CSR CSR4066 / CSR 4442 Various
Extended exposure
Hose / Cable set: 25m
Multiple exposure
Quasar: DOE ID13 MP4 30 Included
ASF Small marks
IOSc-3 Packages
PEP 1100
Dose mapper
ASF Improved TIS measurement
Key tool performance indicators:
Focal plane deviation [nm]: 98
Astigmatism [nm]: 68
Lens distortion measured 139 points / Field:
Non-correctable error [nm]
NCE X: 2.7
NCE Y: 1.7
Dynamic performance:
Moving standard deviation mean +3 sigma: 7.5
Moving average mean +3 sigma: 1.9
Focus & levelling:
Focus repeatability (3σ) [μm]: 0.021
Level-ling repeatability:
Rx (3σ) [μrad]: 1.02
Ry (3σ) [μrad]: 1.11
Overlay performance:
Stage repeatability:
X [nm]: 1.6
Y [nm]: 3.1
Single machine overlay: 99.7% (Worst case, from stable phase) [nm]
X - Maximum 99.7%: 7.7
Y - Maximum 99.7%: 7.3
Matched machine overlay (99.7%): 10.6
Material handling:
X Position (3σ) [μm]: 0.39
Y Position (3σ) [μm]: 1.92
Rotation θ (3σ) [μrad]: 18.21
Image quality control:
3σ Image sensor measurements:
Focus repeatability: 4.78
Image tilt repeatability (Rx): 0.23
Image tilt repeatability (Ry): 0.31
Translation repeatability: 0.69
Magnification repeatability: 0.03
Die rotation repeatability: 0.06
Reticle inspection systems IRIS option:
Size and position reproduciblity: 0.997
Position range / Size standard deviation: 0.997
Inspection time [s]: 140
Stray light:
Cleaning trigger: 3.22%
Tamis:
Z7: 0.592
Z8: 1.271
Z9: 0.29
Additional elements tool include:
Laser 4kHz: Upgraded source / CYMER 7600A Laser
IRIS: Reticle inspection system
IOSc 3+: Overlay improvement
Quasar:
Automated DOE exchanger
Metrology data interface
Hertz: 60 Hertz
Power: 208 V.
Les ASML PAS 5500 et 1100 sont des gradins utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs pour la réalisation de circuits intégrés. Les ASML PAS 5500 et 1100 sont des outils d'exposition avancés qui utilisent un faisceau vertical de lumière ultraviolette pour réaliser des motifs semi-conducteurs sur une résine photosensible sur une plaquette de silicium. Les PAS 5500 et 1100 sont les derniers systèmes de lithographie à balayage-projection, utilisant un interféromètre laser pour obtenir les meilleurs résultats pour la superposition, la répétabilité et la précision. Le système offre une résolution de 0,3 micromètre et une ouverture numérique (NA) de 0,65. Une caractéristique des systèmes est leur capacité de taille de champ variable qui permet d'adapter la forme du faisceau pour une grande variété de motifs et de tailles de tangage. Les ASML PAS 5500 et 1100 sont équipés d'une tête d'exposition de plusieurs mégapixels, ce qui aide à réaliser une résolution de moins de 10 nanomètres. Il présente également une lithographie d'immersion améliorée, le liquide étant rempli entre la lentille de projection et la plaquette. Ceci augmente la transmission de la lumière, conduisant à une meilleure formation de l'image. Le pas de plaquette dispose d'un système d'asservissement avancé, qui permet des déplacements et des expositions rapides de la plaquette avec une grande précision. Il dispose également d'un certain nombre de fonctionnalités intelligentes telles que le préalignement intelligent, l'alignement efficace des bords, et le balisage efficace. En outre, les systèmes offrent un haut niveau de débit et un faible coût de propriété. Le système offre une interface utilisateur intuitive avec des options d'automatisation avancées, ce qui le rend facile et efficace à utiliser. Il prend également en charge les diagnostics à distance et fournit des systèmes de suivi des outils en ligne. ASML PAS 5500 et 1100 sont quelques-uns des paliers de plaquettes les plus avancés dans l'industrie des semi-conducteurs, avec leur haute résolution et leur temps d'exposition court les rendant idéales pour la fabrication de dispositifs sub-microns.
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