Occasion ASML PAS 5500 / 1100B #9161690 à vendre en France
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Vendu
ID: 9161690
ArF Scanner, 8"
193nm Lithography
Signal tower: Local
SPM Alignmet: Standard
Optical prealign mark sensor: Standard
Wafer type: Notch
FAT Attendance: Yes
Laser type: CYMER Laser
Extended exposure: Yes
IRIS-6 Inch reticles: Yes
Cassette elevator position: 1 / 2
Wafer track interface: TEL Mark 5 / 7 / 8 / ACT8
SECS I / II Interface: Yes
Batch streaming: Advanced RMS
Tape streamer OCU-MK4 / Less: Yes
Single reticle SMIF handling: Yes
Sign All: Yes
Reticle SMIF pod tag reader: Stepper version
Metrology data interface: Yes
Reticle barcode reader 24 char: Yes
Extended exposure translation: Yes
ASF E-Chuck flatness qualification: Yes
ASF Applic specific lensheet: Yes
CSRs Vanous: CSR4066 / CSR 4442
Extended exposure: Yes
25m Hose / Cable set: Yes
Multiple exposure: Yes
Quasar: Yes (DOE ID13 MP4 30 Included)
ASF Small marks: Yes
IOSc-3 Packages: Yes
PEP1100: Yes
Dosemapper: Yes
ASF Improved TIS measurement: Yes
Hertz: 60 Hertz
Power: 208 Volt
Key tool performance indicators:
Focal plane deviation [nm]: 98
Astigmatism [nm]: 68
Lens distortion measured 139 points / field:
Non-correctable error [nm]
NCE X: 2.7
NCE Y: 1.7
Dynamic performance:
Moving standard deviation mean +3 Sigma: 7.5
Moving average mean +3 Sigma: 1.9
Focus repeatability (3σ) [μm]: 0.021
Level-ling repeatability:
Rx (3σ) [μrad]:1.02
Ry (3σ) [μrad]:1.11
Overlay performance:
Stage repeatability:
X [nm]: 1.6
Y [nm]: 3.1
Single machine overlay: 99.7%
X - Max 99.7%: 7.7
Y - Max 99.7%: 7.3
Matched machine overlay (99.7%): 10.6
Material handling:
X Position (3σ) [μm]: 0.39
Y Position (3σ) [μm]: 1.92
Rotation θ (3σ) [μrad]: 18.21
Image quality control:
3σ Image sensor measurements:
Focus repeatability: 4.78
Image tilt repeatability (Rx): 0.23
Image tilt repeatability (Ry): 0.31
Translation repeatability: 0.69
Magnification repeatability: 0.03
Die rotation repeatability: 0.06
Reticle inspection systems IRIS option:
Size and position reproduciblity:
Position range / Size standard deviation: 0.997
Inspection time [s]: 140
Stray light:
Cleaning trigger: 3.22%
Tamis:
Z7: 0.592
Z8: 1.271
Z9: 0.29
Additional elements tool include:
Laser 4kHz: Upgraded source / CYMER 7600A Laser
IRIS: Reticle inspection system
Dose mapper
IOSc 3+: Overlay improvement
Quasar:
Automated DOE exchanger
Metrology data interface.
ASML PAS 5500/ 1100B est un pas de plaquette, un type de machine utilisé par l'industrie des semi-conducteurs pour créer des circuits électroniques intégrés. Il est utilisé pour transférer un photomasque (image photographique contenant des motifs de circuits) sur une plaquette ultra-mince. PAS 5500/ 1100B est un appareil performant qui supporte une large gamme de matériaux et de tailles de dispositifs. Il dispose d'un système de balayage en deux étapes capable de produire des structures très précises. L'ASML PAS 5500/ 1100B utilise une combinaison de lentilles optiques, de technologie de balayage et de pistes à contour précis pour créer avec précision et cohérence des tailles de fonctions de sous-microns sur les plaquettes. Il utilise également un design d'illuminateur innovant qui réduit la distorsion de l'image photomasque tout en assurant une résolution plus élevée. Ce système fonctionne à des vitesses allant jusqu'à trois cents wafers par heure et offre des capacités de débit élevées. Le PAS 5500/ 1100B nécessite un temps d'installation minimal et peut être facilement intégré dans une ligne de production. Il utilise une manipulation de plaquettes à grande vitesse, entièrement automatisée. Cela lui permet de reconnaître, scanner et transférer rapidement le photomasque sur la plaquette sans aucune intervention humaine. ASML PAS 5500/ 1100B est très fiable et peut traiter une large gamme de plaquettes, de grandes à petites. Il a une faible empreinte et est capable de fonctionner dans les modes de production standard, pour la production à haut volume et à bas volume. Le système supporte également des fonctions extrêmement délicates telles que l'impression de motifs, l'alignement et le micro-balayage. PAS 5500/ 1100B est l'un des systèmes de photolithographie les plus utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs. Il fournit une solution fiable et précise pour créer des circuits intégrés de haute qualité. Cette technologie a permis à l'industrie des semi-conducteurs de produire des circuits intégrés de meilleure qualité, plus petits et plus complexes de manière rentable et plus rapide.
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