Occasion ASML PAS 5500 / 150 #293817872 à vendre en France
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ID: 293817872
i-Line stepper
Numerical Aperture (NA): 0.6
Resolution: 350 nm
DCO: 50
Throughput (WPH): 80.
ASML PAS 5500/150 est un pas de tranche très avancé qui joue un rôle crucial dans l'industrie des semi-conducteurs pour les processus de photolithographie. ASML, un fabricant leader d'équipements semi-conducteurs, est connu pour sa technologie de pointe et ses solutions innovantes dans le domaine de la lithographie. L'ASML PAS 5500/150 est un pas ultraviolet profond (DUV) d'une longueur d'onde de 248nm, ce qui permet un tissage à haute résolution sur des plaquettes de silicium. Cette étape est conçue pour répondre à la demande croissante de géométries plus fines et de performances améliorées dans la fabrication de semi-conducteurs. Avec un bilan de fiabilité et de précision, PAS 5500/150 est un choix populaire parmi les fabricants de semi-conducteurs pour ses fonctionnalités et capacités avancées. L'une des caractéristiques clés du PAS 5500/150 est son équipement à étages de haute précision, qui permet un positionnement et un alignement précis de la plaquette pendant le processus d'exposition. Ceci permet de transférer des motifs sur la plaquette avec une grande fidélité et une distorsion minimale. Le stepper intègre également des systèmes avancés d'autofocus et de nivellement pour maintenir une concentration et une planéité optimales sur toute la surface de la plaquette. ASML PAS 5500/150 est équipé d'un système d'éclairage sophistiqué qui comprend des options d'ouverture numérique variable (NA) pour contrôler la résolution et la profondeur de mise au point. Cela permet aux utilisateurs d'ajuster les paramètres d'imagerie en fonction des exigences spécifiques du processus de lithographie, permettant la production de motifs de dimensions et de complexité variables. En outre, ASML PAS 5500/150 dispose d'un étage réticulaire polyvalent qui supporte les technologies de masque binaire et de déphasage. Cette flexibilité permet aux utilisateurs de choisir le type de masque le plus adapté à leurs besoins spécifiques, qu'il s'agisse de motifs binaires simples ou de techniques avancées de déphasage pour la lithographie sous-onde. Le stepper est également équipé d'une unité d'alignement et de recouvrement de pointe qui assure l'enregistrement précis de plusieurs couches pendant le processus de lithographie. Ceci est essentiel pour obtenir des marges de recouvrement serrées et un alignement précis des différents motifs sur la plaquette, en particulier dans la fabrication avancée de dispositifs multicouches. En outre, PAS 5500/150 intègre des capacités avancées de contrôle logiciel et d'automatisation pour une performance et une productivité optimales de l'outil. La machine est conçue pour des environnements de fabrication à haut débit, permettant un fonctionnement efficace et un traitement rapide des plaquettes pour répondre à des calendriers de production exigeants. Dans l'ensemble, PAS 5500/150 est un pas de plaquette sophistiqué qui offre des capacités avancées pour des procédés de lithographie haute résolution et haute précision dans la fabrication de semi-conducteurs. Ses caractéristiques innovantes, ses performances fiables et sa flexibilité en font un outil précieux pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à repousser les limites de la miniaturisation et de la performance des appareils sur le marché concurrentiel actuel.
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