Occasion ASML PAS 5500 / 20 #293817873 à vendre en France

ASML PAS 5500/20 wafer stepper est un outil précieux pour la fabrication de semi-conducteurs, offrant des procédés de photolithographie de haute qualité, différencié par sa conception optique avancée et sa résolution d'imagerie. Ce stepper est conçu avec un grand champ de diaphragme de 20 pouces et est capable de produire et d'inspecter des structures avec une zone d'exposition allant de 0,5 mm ² à 200 mm ². Ce pas a une résolution d'instrument de 2500 x 2500 Half Pitch Line/Space (HPL/S) avec une précision d'alignement de 0,2 microns (µm) et une portée d'imagerie totale qui peut être étendue à 250 mm x 200 mm. PAS 5500/20 est conçu avec un système de réduction et de lithographie 5x utilisant des lampes à incandescence et des optiques de projection de contraste élevé, fournissant une réduction globale d'une plaquette de 4 mm portée jusqu'à 5x, ce qui donne une taille de champ d'image de 0,8 mm. Une large gamme d'options peut être ajoutée à l'étape, y compris des lentilles personnalisées, des filtres spectraux et des logiciels d'automatisation. Pour améliorer la précision de l'étape et augmenter sa précision pour chaque broche de motif, il est conçu avec la technologie de mélange et de correspondance qui permet d'ajuster différentes broches indépendamment. ASML PAS 5500/20 dispose également d'un système d'éclairage avancé qui est conçu pour fournir un éclairage uniforme tout en permettant une vitesse de débit moyenne de 100 wafers par heure. Il dispose également de caractéristiques d'alignement intégrées qui permettent un alignement facile et rapide des plaquettes avec des structures pour plus de précision. Le stepper est également conçu avec une capacité de mesure in situ qui permet une caractérisation quasi instantanée des plaquettes et l'identification rapide des anomalies ou des défauts d'échelle des gouttelettes. La conception compacte permet une installation facile dans les salles blanches semi-conductrices avec une hauteur de seulement 138 cm et une largeur et longueur totale d'environ 92 cm x 101 cm respectivement. Avec son système de refroidissement efficace, ses faibles exigences de maintenance et son faible impact environnemental, PAS 5500/20 est un outil idéal pour réaliser des processus de photolithographie critiques dans l'industrie des semi-conducteurs.