Occasion ASML PAS 5500 / 200D #293815005 à vendre en France

ASML PAS 5500/ 200D est un pas de plaquette de pointe conçu pour les procédés avancés de lithographie des semi-conducteurs. Développé et fabriqué par ASML, un des principaux fournisseurs d'équipements de photolithographie pour l'industrie des semi-conducteurs, PAS 5500/ 200D représente un progrès significatif dans la technologie de lithographie optique. Cet équipement est spécialement conçu pour des environnements de production à haut volume où il est nécessaire de réaliser des analyses précises à l'échelle des nanomètres. Au cœur de l'ASML PAS 5500/ 200D se trouve son système de projection optique, qui utilise une source lumineuse puissante, une optique précise et des mécanismes d'alignement et de focalisation avancés pour projeter un motif sur une plaquette de silicium. L'unité utilise des sources lumineuses à ultraviolet profond (DUV) fonctionnant à des longueurs d'onde de 193 nm ou 248 nm, permettant de moduler des caractéristiques jusqu'à des noeuds inférieurs à 10 nm. L'utilisation de sources de lumière DUV permet une résolution plus élevée et un contrôle plus strict des fonctionnalités par rapport aux anciennes technologies de lithographie. L'une des principales caractéristiques de PAS 5500/ 200D est sa machine d'alignement et d'étage précis, qui assure une superposition et un alignement précis de plusieurs couches sur la plaquette. L'outil est équipé de mécanismes avancés de contrôle des étages, tels que des moteurs linéaires et des capteurs de rétroaction, qui permettent la précision du sous-nanomètre dans le positionnement des plaquettes. En outre, l'actif intègre des capteurs d'alignement sophistiqués, tels que des systèmes de détection de phase et d'alignement par image, pour assurer l'enregistrement précis des motifs entre les différentes couches de masque. L'ASML PAS 5500/ 200D dispose d'un étage réticulaire de haute précision, qui maintient les photomasques contenant les motifs à transférer sur la plaquette. Le modèle est capable de manipuler à la fois des masques binaires et des masques à déphasage, permettant de modeler des structures semi-conductrices complexes à haute résolution et fidélité. L'étape réticulaire intègre des mécanismes avancés de manipulation des pellicules pour protéger le masque contre les particules et les contaminants, assurant ainsi l'intégrité du processus de fixation. En plus de ses systèmes d'optique et d'alignement avancés, PAS 5500/ 200D est équipé d'un équipement de manutention de plaquettes à grande vitesse qui permet un débit rapide et une productivité élevée dans la fabrication de semi-conducteurs. Le système est compatible avec les plaquettes de silicium standard de 200 mm et 300 mm, ce qui le rend adapté à une large gamme de procédés de production dans l'industrie des semi-conducteurs. ASML PAS 5500/ 200D dispose également d'une suite logicielle complète qui permet le contrôle automatisé des processus, l'analyse des données et la gestion des recettes. Le logiciel de l'unité comprend des algorithmes avancés pour optimiser les paramètres d'exposition, tels que la dose, la concentration et la superposition, afin d'obtenir les résultats escomptés avec une précision et une répétabilité élevées. En outre, le logiciel de la machine offre des capacités de surveillance et de diagnostic en temps réel pour identifier et résoudre proactivement les déviations de processus ou les problèmes d'équipement. Dans l'ensemble, PAS 5500/ 200D est un outil de pointe qui combine une optique avancée, des mécanismes d'alignement précis, une manipulation rapide des plaquettes et un contrôle logiciel sophistiqué pour permettre la production de dispositifs semi-conducteurs avancés avec une résolution inférieure à 10 nm. Cet atout est bien adapté aux environnements de fabrication de semi-conducteurs à haut volume où des exigences de performance strictes et un contrôle strict des processus sont essentiels.