Occasion ASML PAS 5500 / 250C #293810531 à vendre en France

ASML PAS 5500/ 250C est un pas de plaquette haute performance qui a été largement utilisé dans l'industrie de la photolithographie à semi-conducteurs. PAS 5500/ 250C étapes couches d'un masque de résiste sur des substrats de plaquettes. Ceci est fait avec un équipement avancé de projection laser qui peut produire des motifs géométriques répétitifs avec un degré élevé de précision, permettant une gravure de précision du motif désiré sur le substrat de la plaquette. ASML PAS 5500/ 250C est composé de plusieurs composants différents, dont l'étage, le laser, le masque et les étages. L'étage est une grande plate-forme qui supporte les plaquettes pendant le processus d'exposition. Il fournit la stabilité nécessaire pour permettre une exposition précise des masques de résistance. Le laser est une diode laser de forte puissance qui est capable de produire les motifs nécessaires. Les masques sont un ensemble de tôles qui contiennent les motifs souhaités et sont utilisés pour les projeter sur les plaquettes. Les étages sont les composants chargés de contrôler l'alignement et le positionnement des masques lors de l'exposition. PAS 5500/ 250C a plusieurs caractéristiques qui le rendent idéal pour les procédés photolithographiques à l'échelle industrielle. Le système est capable de gérer le temps d'exposition, permettant des expositions précises à différentes profondeurs et avec des expositions variables. L'intensité laser et la longueur d'onde peuvent également être contrôlées avec précision, ce qui permet de minimiser les dommages optiques et le flou. De plus, l'unité comprend un actionneur de focalisation de précision qui permet de traduire le masque avec précision à la position appropriée pour chaque exposition. ASML PAS 5500/ 250C est un outil fiable et fiable pour la photolithographie, grâce à sa technologie de pointe et à ses composants bien conçus. Sa conception flexible permet la mise en œuvre d'une variété de processus différents, et sa précision et son efficacité le rendent idéal pour les applications à haut débit. La machine a également un faible coût d'entretien et est facile à utiliser. Cela en fait un choix attrayant pour les procédés de photolithographie industrielle.