Occasion ASML PAS 5500 / 275D #293817866 à vendre en France
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ID: 293817866
i-Line stepper
Numerical Aperture (NA): 0.48-0.60
Resolution: 280 nm
DCO: 40
MMO: 80
Throughput (WPH): 120.
ASML PAS 5500/ 275D est un pas de plaquette moderne utilisé dans les applications de photolithographie qui aident à fabriquer des dispositifs semi-conducteurs. C'est un pas de plaquette très efficace qui permet d'écrire des motifs lithographiques de haute précision sur la plaquette. Cette étape utilise une technologie de balayage avancée, synchronisant un porte-masque, un porte-plaquettes et une tête optique en un seul gabarit. PAS 5500/ 275D est un pas de balayage vectoriel qui utilise des systèmes d'entraînement numérique, des paliers magnétiques et un équipement de projection avancé pour obtenir un positionnement de haute précision des porte-réticules. Sa commande de mouvement de précision à quatre axes assure un alignement fin du masque et de la plaquette, ce qui la rend apte à des applications de superposition fine. Le dispositif dispose également d'un système de manutention des plaquettes qui est fiable et robuste. Il dispose d'une unité d'éclairage efficace qui utilise une optique de focalisation bidimensionnelle et une pupille binaire pour réduire la quantité d'énergie utilisée pour exposer la plaquette. Cela lui permet également de maintenir une faible consommation d'énergie tout en offrant des performances supérieures. Le stepper dispose également d'un outil de reconnaissance automatique des motifs qui aide à atteindre un débit et un rendement élevés dans les applications de balisage. ASML PAS 5500/ 275D dispose d'un actif de contrôle avancé qui garantit des processus d'exposition précis et reproductibles. Il réduit le temps nécessaire à la mise en place d'un cycle de production, améliorant ainsi les performances et l'efficacité du procédé. Enfin, il est équipé d'une interface de communication embarquée pour le diagnostic à distance et le suivi des opérations de lithographie. Dans l'ensemble, PAS 5500/ 275D est un pas de plaquette hautement capable et efficace qui aide à fabriquer des dispositifs semi-conducteurs fiables et reproductibles. Il a une construction robuste, et ses automatismes avancés, les systèmes d'entraînement numérique et l'optique lui permettent d'obtenir des images haute résolution avec une consommation électrique minimale. En outre, son interface de communication à distance permet aux utilisateurs de surveiller les opérations de lithographie et d'ajuster les paramètres si nécessaire.
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