Occasion ASML PAS 5500 / 300 #9211288 à vendre en France

ASML PAS 5500/300 est un pas de plaquette utilisé pour la photolithographie dans la fabrication de semi-conducteurs. Il s'agit d'un outil pas à pas conçu pour une production à très haut volume et doté d'un équipement de manutention de plaquettes entièrement automatisé, offrant des capacités d'exposition cohérentes et répétables. L'outil est capable de traiter jusqu'à 300 mm de plaquettes de silicium, ce qui le rend idéal pour la production de systèmes complexes sur puce (SoC). L'ASML PAS 5500/300 est équipé d'une série de technologies brevetées, y compris l'optique plein champ, la lithographie par interférence laser et l'optique double passe. L'unité d'optique plein champ dispose de cinq objectifs avec 25 mm de sag, fournissant 0,65 NA du masque à la plaquette pour une imagerie optimale. La lithographie d'interférence laser (LIL) combine des formes d'onde sinusoïdales bidimensionnelles avec l'éclairage traditionnel pour créer des fonctions binaires à haute résolution jusqu'à un minimum de Linewidth @CD de 35 nanomètres. Enfin, l'optique double passe atteint une résolution de 0,25 μ m sur l'ensemble du champ de vision de 25 mm. PAS 5500/300 dispose également d'un scanner à galvano à deux étages, capable de scanner la plaquette sur 300 mm avec une distorsion minimale. Le scanner galvano a une vitesse de balayage maximale de 30 000 lignes/seconde et une vitesse maximale de 0,5 m/s, offrant un débit élevé et des temps de cycle rapides. En outre, l'étage de plaquette dispose de deux actionneurs pour garantir une précision de position précise, et d'une machine absorbant les vibrations pour atténuer les perturbations environnementales. PAS 5500/300 dispose d'un outil de manutention de plaquettes entièrement automatisé, assurant un positionnement précis de la plaquette sur la scène et un transfert facile entre l'avant et l'arrière du processeur. Le chargeur avant offre une manipulation à faible dislocation avec une variation moyenne minimale des plaquettes pour créer des profils d'exposition cohérents. La chambre dispose également d'un contrôleur atmosphérique, fournissant une pression et une température constantes pour une gamme de conditions de charge et de processus. Dans l'ensemble, ASML PAS 5500/300 wafer stepper est un outil de pointe avec des technologies innovantes, offrant une production d'ultra-haut volume et des expositions constantes et répétables. La combinaison de l'optique plein champ, LIL, l'optique double-passage, fastscanning, et la manipulation automatisée des plaquettes font de l'outil idéal pour produire des conceptions SoC complexes avec haute résolution, basse Linewidth @CD fonctionnalités jusqu'à 35 nanomètres.