Occasion ASML PAS 5500 / 300B #100797 à vendre en France

ASML PAS 5500/ 300B wafer stepper est un dispositif critique utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Dans le cadre du processus de lithographie, des gradins de plaquettes sont utilisés pour projeter un motif sur la plaquette, ce qui permet de graver, de traiter ou de manipuler la zone visée d'une manière ou d'une autre. Le PAS 5500/ 300B est aligné optiquement et contient un illuminateur, une optique de projection, une optique d'alignement, des systèmes de support et de mouvement, un équipement d'éclairage et un système à vide. L'illuminateur est la source de la lumière projetée, et contient un certain nombre de lampes, des récipients de lampes, une commande d'obturation, et une lentille d'obturation. L'illuminateur assure également une protection contre les réactions mécaniques ou les chocs thermiques des composants. En fonction de l'état d'exposition, l'exposition souhaitée sera choisie. L'optique de projection est le dispositif responsable de la création de l'image projetée sur la plaquette et comprend un objectif, un condenseur, une lentille d'imagerie et un filtre optique. L'objectif focalise la lumière sur la plaquette, et l'objectif condenseur focalise la lumière sur l'objectif d'imagerie. La lentille d'imagerie forme alors l'image projetée, et le filtre optique est utilisé pour sélectionner la longueur d'onde de la lumière utilisée pour une exposition particulière. L'optique d'alignement assure la manutention et le déplacement de la plaquette pendant le processus. Les optiques d'alignement contrôlent le démarrage et l'arrêt du processus d'exposition et maintiennent l'alignement de la plaquette sur l'objectif d'imagerie. L'unité de support et de mouvement assure l'alignement entre la plaquette et l'optique de projection. La précision de recouvrement d'origine, qui consiste à placer les motifs d'exposition sur la plaquette avec précision et dans le bon alignement, est maintenue avec le support et la machine de mouvement. L'outil comprend de nombreuses pièces telles qu'un module de mesure de champ de vision, un étage de mouvement, un contrôleur de focalisation, un interféromètre laser et une interface informatique. L'élément d'éclairage est l'alimentation électrique responsable de tous les composants électriques du modèle et comprend un module de commande d'éclairage numérique, un module de commande de puissance à distance, des amplificateurs de puissance, des amplificateurs numériques et des amplificateurs. L'équipement sous vide est responsable de la chambre de substrat qui maintient la plaquette ainsi que d'autres composants. Il maintient la pression pendant le processus et est responsable de garder la plaquette propre pendant qu'elle est exposée. Il aide également à empêcher les contaminants d'entrer dans la chambre et empêche l'oxydation de se produire pendant le processus d'exposition. Dans l'ensemble, l'ASML PAS 5500/ 300B est un dispositif incroyablement important pour la fabrication de semi-conducteurs. Avec la combinaison de son illuminateur, optique de projection, optique d'alignement, système de support et de mouvement, unité d'éclairage, et machine à vide, il peut créer avec précision et précision les images qui sont utilisées pour manipuler et façonner les puces semi-conductrices.