Occasion ASML PAS 5500 / 300B #293817865 à vendre en France

ASML PAS 5500 / 300B
Fabricant
ASML
Modèle
PAS 5500 / 300B
ID: 293817865
Stepper Numerical Aperture (NA): 0.40-0.57 Resolution: 250 nm Throughput (WPH): 80.
ASML PAS 5500/ 300B est un pas de plaquette haute performance de 300 mm pour le traitement avancé des dispositifs semi-conducteurs. Cet équipement offre un débit ultra élevé et des performances de balisage avancées avec une résolution maximale de 0,1 microns. PAS 5500/ 300B est une étape optique avancée et un système de lithographie répétée. Il est basé sur les lasers excimères KrF, ArF et ArF-plus, permettant une large gamme de capacités de processus lithographiques. Avec la technologie brevetée de la série PAS300 Superior Process Capability (SPC), cette unité est capable d'imiter les modèles les plus complexes. Il offre également aux industries une précision inégalée de recouvrement et de focalisation, ce qui le rend idéal pour produire les derniers appareils à l'échelle nanométrique. Cette machine est intégrée verticalement et comprend deux étages de précision, un laser, un illuminateur, un objectif, un porte-plaquettes et un scanner in situ. ASML PAS 5500/ 300B est capable de stocker de nombreux matériaux différents, y compris des résines photosensibles, GaAs et ZnS. Il offre une résolution optique leader de l'industrie de 0,1 microns, avec une taille minimale de 0,4 microns. Cela permet une gravure et une gravure extrêmement précises. En tant qu'outil avancé, PAS 5500/ 300B est équipé de plusieurs fonctionnalités spécialisées. Il s'agit notamment de l'actif de surveillance interférométrique, de l'ajusteur de centrage des plaquettes et de la technologie d'optimisation de l'emplacement des bords intra-champ. Avec ces conceptions, le modèle est capable d'atteindre une fidélité de motif incroyablement élevée avec une variation minimale de la largeur de ligne. Cet équipement est conçu pour un débit ultra-élevé. Avec la capacité septuplet de son système à 4 lentilles, ASML PAS 5500/ 300B peut traiter 8 plaquettes simultanément. Il dispose également de séquences de traitement de tâches flexibles et de la possibilité d'exécuter des tâches de lithographie temporelle. Avec son interface conviviale, PAS 5500/ 300B offre une précision et une vitesse combinées à un faible coût pour l'utilisateur. L'unité peut supporter une large gamme de plaquettes de 3 pouces à 8 pouces et est parfaitement adaptée pour les applications avancées de photomasques. Avec ses performances de fabrication supérieures et sa conception robuste, cette machine est la solution idéale pour le traitement des dispositifs semi-conducteurs.
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