Occasion ASML PAS 5500 / 300C #293746594 à vendre en France
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ID: 293746594
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Stepper, 8"
CYMER ELS-5600 Laser
DONALDSON P198475 Filter
ARMS Reticle handler
Wafer handler
IL Bottom module
CT Cabinet
Electronic cabinet
OCU Unit
ARMS Control unit
Cover cart
2000 vintage.
ASML PAS 5500/300C est un pas de plaquette de pointe, utilisé pour la production de circuits intégrés avancés (IC) ou de microchips. C'est un pas sans masque, l'un des principaux systèmes de lithographie pour les applications haut de gamme. ASML PAS 5500/300C est spécialement conçu pour les applications de lithographie 2D et 3D. Grâce à sa technologie de pointe et à son automatisation, l'équipement offre une répétabilité accrue. Il a une vitesse de balayage de 1,6 × grossissements qui se traduit par plus de 80 plaquettes par heure. Le système est basé sur une unité optique unique à deux étages. Il dispose d'une machine d'alignement à deux axes, d'une unité de balayage avancée et d'un imageur haute performance. La plate-forme optique intégrée offre des performances optiques supérieures et un débit supérieur, permettant un traitement plus rapide des plaquettes. PAS 5500/300C est un pas masqué de classe mondiale, capable d'effectuer une exposition très précise. Il dispose d'un certain nombre de caractéristiques qui sont conçues pour assurer le plus haut niveau de précision et de répétabilité. L'outil utilise un certain nombre de technologies pour une superposition de motifs stable et précise, notamment les algorithmes suivants : alignement basé sur la corrélation, compensation de superposition, appariement de motifs d'alignement et raffinement des bords. L'actif est bien considéré pour sa fonction asymétrie programmable sans masque (MPA). Cette fonction permet de régler les paramètres d'exposition pour compenser les variations de recouvrement et de proximité. Avec la MPA, la surface de la plaquette peut être réduite avec succès, ce qui donne un degré plus élevé de précision et de rentabilité pour la production d'IC. En outre, PAS 5500/300C présente un nouveau modèle d'acquisition, avec des comparaisons d'images avancées, des capacités de détection de défauts et de mesure d'aberration. Il dispose également d'une technologie brevetée Photomask-Maskless-Transfer qui permet aux utilisateurs de transférer des motifs du masque optique à la plaquette plus précisément que jamais. L'ASML PAS 5500/300C peut être facilement intégré dans n'importe quel équipement de lithographie et il est supporté par une large gamme d'outils logiciels, ce qui le rend plus polyvalent que jamais. C'est un outil idéal pour la production de circuits intégrés à haut volume et d'autres micro-composants avancés. Avec son degré plus élevé de précision, de répétabilité et de rentabilité, ASML PAS 5500/300C est devenu un choix de pointe pour la fabrication de semi-conducteurs.
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