Occasion ASML PAS 5500 / 300C #293817864 à vendre en France

ASML PAS 5500/300C Wafer Stepper est un équipement lithographique complexe utilisé pour la fixation de plaquettes semi-conductrices. Le système est conçu pour la production de plaquettes de 300mm et dispose d'un scanner haute résolution, d'une ouverture numérique variable (NA), et d'une gamme de configurations d'éclairage. ASML PAS 5500/300C Stepper est capable de fournir une ouverture numérique élevée (NA), allant de 0,200 à 0,63. L'unité a une taille de champ de 300mm et il est équipé d'une résolution XY de 0,1 µm, ce qui le rend idéal pour les processus de production de semi-conducteurs. Il est spécifiquement conçu pour fournir l'ultime en fiabilité, précision et résolution pour la lithographie d'imagerie de grande surface. PAS 5500/300C dispose d'un scanner haute résolution qui est capable de scanner un champ adjacent avec seulement un écart de résolution de 3 mm. Le scanner peut fonctionner à une vitesse de balayage d'environ 1000 mm/sec, ce qui le rend adapté à une production à haut débit. En outre, sa machine optique est capable de recevoir une variété de configurations d'éclairage, y compris Koehler, annulaire et de champ uniforme. De plus, l'outil est capable d'utiliser une large gamme de sources lumineuses laser à l'état solide pompées par excimère et diode, y compris le laser ARF (argon fluoride). En plus de ses capacités d'imagerie avancées, PAS 5500/300C Wafer Stepper dispose également d'un ensemble de fonctionnalités d'automatisation, qui visent à simplifier le processus de modélisation. Il dispose d'un outil de manutention automatisé des plaquettes, qui permet un échange rapide des plaquettes et des masques. En outre, il est équipé d'un contrôleur de processus intégré, permettant le contrôle en temps réel du modèle. Enfin, l'équipement est alimenté par une architecture mono-puce qui est conçue pour des frais généraux rapides et ultra-bas dans le traitement de l'image. Dans l'ensemble, ASML PAS 5500/300C Wafer Stepper est l'un des systèmes les plus avancés pour la fixation des plaquettes semi-conductrices. Son scanner haute résolution, son ouverture numérique variable et ses fonctions d'automatisation avancées le rendent idéal pour produire une lithographie à grande surface de motifs. Son architecture monoplace et son contrôleur de processus intégré offrent également des performances supérieures, ce qui en fait une solution idéale pour les fabricants de semi-conducteurs.