Occasion ASML PAS 5500 / 300C #9309192 à vendre en France

ASML 5500/300C wafer stepper est un équipement d'exposition compact et économique conçu pour la production de photomasques pour la fabrication de semi-conducteurs. Le stepper dispose d'une interface graphique intuitive et conviviale, qui permet à l'utilisateur d'ajuster facilement les paramètres pour l'alignement parfait et l'exposition des plaquettes. ASML 5500/300C utilise une architecture à double goutte, assistée par laser, qui crée deux motifs d'exposition se chevauchant pour chaque couche. Cela permet d'assurer un positionnement précis de la plaquette exposée et crée une taille plus petite et uniforme. Le système dispose également d'une unité brevetée « Défocalisation assistée par laser » (LAD), qui permet à la machine d'ajuster avec précision la focalisation du faisceau laser en fonction de la surface de la plaquette pour un alignement et une exposition optimaux. ASML 5500/300C stepper est équipé d'un grand champ de vision (118 x 97 millimètres) et d'un séparateur de faisceau spécial à grande surface, ce qui permet à l'outil de balayer rapidement de grandes zones d'une plaquette afin de rendre des images et des fonctionnalités à haute résolution. Cela permet de réduire considérablement les temps de cycle et d'améliorer la qualité globale de l'exposition. En plus de ses capacités d'exposition, ASML 5500/300C wafer stepper intègre également un actif de contrôle de processus complet. Ce modèle permet à l'équipement de contrôler automatiquement la position de la plaquette pendant le processus d'exposition, assurant ainsi un alignement et des paramètres d'exposition répétables. Le système dispose également d'une unité intégrée de détection des défauts (DDS), qui permet à la machine de détecter et de corriger les défauts dans le motif pendant le processus d'exposition. Enfin, ASML 5500/300C wafer stepper est compatible avec une large gamme d'options de lentilles, y compris les lentilles télécentriques, les lentilles d'échelle, et les lentilles de décalage, ce qui permet d'assurer des précisions allant jusqu'à 0,3 microns. Cela aide à créer des photomasques avec la résolution la plus élevée possible, permettant à l'utilisateur d'obtenir les meilleurs détails dans leurs motifs, et leur permettant de produire les meilleures pièces semi-conductrices possibles. En résumé, ASML 5500/300C wafer stepper est un outil d'exposition sophistiqué mais intuitif qui fournit aux utilisateurs un niveau élevé de précision d'exposition et de contrôle. La vaste gamme de fonctionnalités de l'actif permet à l'utilisateur de rendre rapidement des modèles haute résolution avec un minimum d'effort, et grâce à ses systèmes avancés de contrôle des processus et de détection des défauts, le modèle assure un rendement et une qualité maximaux.