Occasion ASML PAS 5500 / 400C #9049031 à vendre en France

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Fabricant
ASML
Modèle
PAS 5500 / 400C
ID: 9049031
Style Vintage: 1993
i-Line Stepper, 8" Process: i-line 4x Uniformity: 1.0 Software: UNIX Basic configuration: SMIF SECE I/II 6" Reticle Wafer OF type: flat zone Inline flow right Software: Main computer: ULTRA-10 Software version v8.9.0 Y2K completion WL&RL: WL port numbers 1 and 2 Lens and illumination: Lens type: 40 Max NA: 0.65 BMU type: Standard Apperture annular: 0.85/0.55 Laser: lamp Stage: 250mm/sec, pin chuck Packing list: Main Power supply device Air pressure control S&T temp control electronic control OCU Reticle change Wafer changer 1993 vintage.
ASML PAS 5500/ 400C wafer stepper est une machine de microlithographie avancée largement utilisée dans l'industrie de fabrication de semi-conducteurs. Elle permet la fabrication précise de circuits intégrés imprimés couche par couche sur plaquettes. L'équipement utilise un ensemble optique monté sur une plate-forme de rotation à commande de mouvement, pour photographier avec précision les motifs sur la surface de la plaquette. Le système d'imagerie est constitué d'un pas laser/scanner avec un ensemble optique contenant une lentille de projection, un condenseur de faisceau et une source lumineuse. Il comprend également un capteur d'imagerie infrarouge avancé, des objectifs de focalisation et d'alignement, et un étage réticulaire. Le pas de plaquette est capable d'imager couche par couche de résine photosensible sur la plaquette, avec une résolution de 250nm. Les montures d'assemblage optique permettent une gamme de réticules, d'une réduction de base 1x jusqu'à une réduction 4x avec champ de vision étendu (FOV). En outre, l'unité est équipée d'une machine d'alignement et de nivellement avancée qui fournit une précision de position jusqu'à 4nm et une précision d'inclinaison de 0,2 mrad. L'optique peut être positionnée et contrôlée dans les directions XYZ, avec une vitesse maximale de 1,2 m/s. Le gradin est capable de détecter et de corriger automatiquement les facteurs environnementaux, tels que les vibrations et les fluctuations de température. Il utilise un outil avancé de contrôle thermique en boucle fermée pour maintenir une température uniforme. Tout cela fournit la précision nécessaire pour assurer la fabrication de dispositifs à haut rendement. En outre, l'ASML PAS 5500/400 C utilise un ordinateur haut de gamme pour le contrôle et la surveillance de l'actif, ainsi que la mise en œuvre de modèles prédictifs et de mesures de contrôle de la qualité. En outre, PAS 5500/ 400C est équipé d'un étage de haute précision pour un échange automatique de plaquettes et de réticules. Le modèle comprend également une unité de sécurité spéciale pour éviter tout contact accidentel avec l'ensemble optique. Le pas de plaquette est capable de traiter une variété de matériaux et de substrats, des photomasques et optiques aux plaquettes de quartz et aux couches minces. Il peut effectuer plusieurs opérations telles que l'exposition, la gravure, le nettoyage et le revêtement. Dans l'ensemble, PAS 5500/400 C wafer stepper est un équipement avancé de microlithographie qui fournit des capacités d'imagerie et de fixation de haute précision pour l'industrie des semi-conducteurs. Il est équipé d'une optique d'imagerie avancée, d'un système de positionnement et de contrôle thermique commandé par ordinateur et d'une unité d'échange de plaquettes à réticules. Ces caractéristiques permettent au dispositif d'identifier, de compenser et de corriger les variations environnementales tout en effectuant le traitement nécessaire avec une précision et une répétabilité élevées.
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