Occasion ASML PAS 5500 / 400D #9207081 à vendre en France

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Fabricant
ASML
Modèle
PAS 5500 / 400D
ID: 9207081
Style Vintage: 2004
Step and scan system, 8" Imaging performance: Resist: Ultrai 123 Through focus: Dense lines: 25 nm Specification: ≤35 nm Isolated lines: 20 nm Specification: ≤50 nm Best focus: Dense lines: 15 nm Specification: ≤25 nm Isolated lines: 13nm Specification: ≤25 nm Main body OCU IL Bottom module C&T Cabinet Arms WTS Cover set Electronic cabinet Wafer stage Airco unit R-Chuck box 1 Accessory box 1 Accessory box 2 Accessory box 3 Accessory box 4 SECS / GEM: Yes 2004 vintage.
ASML PAS 5500/ 400D est un pas de plaquette utilisé pour transférer des motifs sur la surface de substrats semi-conducteurs. C'est une machine très précise capable de produire des motifs complexes qui soutiennent le développement d'une variété de technologies avancées de semi-conducteurs. Grâce à l'utilisation d'une source de lumière ultraviolette (UV), à une optique de pointe et à un alignement précis, le pas est en mesure d'exposer rapidement une couche de résine photosensible appliquée sur une plaquette avec un réseau de structures extrêmement petites. L'optique de l'ASML PAS 5500/400D contient une lentille varifocale, un miroir à plateaux et deux miroirs de pliage qui sont tous utilisés dans l'éclairage et l'imagerie du substrat. La lentille est composée de deux miroirs qui ajustent l'angle d'imagerie du faisceau d'impression et d'un équipement de galvanomètre utilisé pour contrôler la position de la lentille d'imagerie. Le miroir du plateau est utilisé pour balayer le substrat selon les axes x et y afin d'obtenir la résolution d'image souhaitée. Enfin, les miroirs à deux plis aident à l'alignement et à la focalisation du faisceau d'imagerie sur la couche de résine photosensible. Le stepper est également équipé d'un générateur de lignes dynamiques (DLG), qui sert à aligner précisément le faisceau d'imagerie sur la plaquette avec une précision nanométrique. Grâce à l'utilisation de la matrice bidimensionnelle de DLG, la position du faisceau est ajustée en continu en fonction du mouvement de la plaquette. Cela garantit que le processus d'imagerie est précis et répétable à chaque exposition. En plus de l'optique, PAS 5500/400 D est également équipé d'un certain nombre de fonctions de contrôle et de sécurité avancées. Cela comprend un système de contrôle prédictif très avancé, qui ajuste en permanence l'angle d'imagerie optique pour s'assurer que l'image reste compatible avec chaque exposition. De plus, le pas dispose d'une puissante unité de vide pour maintenir l'adhérence du substrat sur le plateau, permettant au processus de se produire dans un environnement extrêmement propre. PAS 5500/ 400D est un pas de plaquette de pointe capable de produire des motifs précis à chaque exposition. Son optique supérieure, son DLG avancé et sa machine de contrôle prédictif garantissent que le processus d'imagerie est précis et répétable à chaque exposition. En outre, son puissant outil sous vide permet au processus de se produire dans un environnement extrêmement propre. Cela fait de l'ASML PAS 5500/400 D un outil précieux pour ceux de l'industrie des semi-conducteurs qui ont besoin de la plus grande précision et précision dans leur processus de production.
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