Occasion ASML PAS 5500 / 400D #9237241 à vendre en France

ASML PAS 5500/ 400D est un équipement de lithographie utilisé pour réaliser des dispositifs microélectroniques tels que des circuits intégrés, des microstructures et des capteurs. Il utilise une méthode de lithographie en projection optique de pointe pour créer ces dispositifs de microscopie sur plaquettes. Cette machine est constituée d'un masque et d'un système de lentilles combinés à un étage de plaquettes. La lentille permet une haute résolution des motifs jusqu'à quelques nanomètres. Le foyer de la lentille se situe au niveau de l'ouverture numérique de 0,255 et est réglable pour différentes distances focales. Cette lentille est montée sur un étage de balayage linéaire. Cet étage de balayage déplace le masque et l'étage de plaquette dans une direction x-y. La surface maximale de balayage est de 400mm par 400mm avec la vitesse de balayage la plus élevée de 75mm/s. L'outil de masque permet un enregistrement précis du motif sur la plaquette. Il permet également un environnement d'imagerie stable sur la plaquette. Pour ce faire, on monte plusieurs systèmes de lentilles et masques sur un même étage. Le motif du masque est divisé en deux parties : la partie image et une donnée de référence qui sert à enregistrer le motif sur la plaquette. La partie image est constituée de motifs photomasques produits par les images distribuées de motifs clients. L'étage de plaquette permet un transfert rapide et précis des images de motifs du masque à la plaquette. Cette étape est composée d'un mandrin, d'une unité de vision et d'une unité de verrouillage de charge. Le mandrin maintient la plaquette en place pendant le processus d'exposition à l'aide d'une méthode sous vide. L'unité de vision dispose de deux caméras CCD pour l'alignement sur le masque et surveiller le chargement et le déchargement des plaquettes. La serrure de chargement est équipée d'un filtre pour l'air propre pour transférer et retirer les plaquettes dans et hors de la chambre de traitement. En conclusion, ASML PAS 6200/400D est un puissant pas de tranche qui permet une production rapide et précise de composants microélectroniques. Son atout lentille fournit une résolution jusqu'à quelques nanomètres, tandis que le modèle de masque fournit un enregistrement précis du motif à la plaquette. L'étage de plaquettes permet des transferts précis et rapides des images de motifs du masque à la plaquette. Sa conception ultramoderne en fait un outil idéal pour produire des dispositifs microélectroniques en grand volume.