Occasion ASML PAS 5500 / 400D #9269681 à vendre en France
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ID: 9269681
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2004
i-Line stepper, 8"
Lens type: 40
SMIF
Automation online component: SECE I / II
Reticle size: 8"
WH Type: Edge sensor
Inline flow: Right
(2) WL Port numbers
PPD Type: IRIS
Lens and Illumination:
Max NA: 0.7
Bottom module type: Aerial 1
Stage:
Scan speed: 250 mm/sec
Chuck: Pin chuck
2004 vintage.
ASML PAS 5500/ 400D est un pas de plaquette utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour l'exposition à la photolithographie. C'est un équipement d'imagerie complexe qui utilise une variété d'objectifs de précision et de systèmes d'actionnement pour projeter un motif sur une surface de plaquettes enduites. L'outil utilise de nouvelles innovations, y compris des lentilles semi-automatisées et des systèmes d'étages de plaquettes. Ce système peut traiter des substrats exposés avec une empreinte minimale de 6-7nm pour la production. ASML PAS 5500/400D utilise un laser excimère KrF (Krypton Fluoride) qui produit une clarté optimale grâce à ses optiques supérieures. Ce laser produit 248nm de lumière ultraviolette, utilisée pour transférer les motifs du masque sur la plaquette. Pour maintenir la précision des alignements du masque et la répétabilité du processus, son unité brevetée de balayage miroir actionné fournit un alignement précis de la lumière laser selon les axes X et Y. Cela crée un balayage précis à travers la plaquette. PAS 5500/400 D dispose d'un étage de plaquette innovant, permettant à la machine d'utiliser une combinaison d'algorithmes de suppression de vibrations et de contrôle de mouvement avancé. Cet outil dispose d'une protection anti-clamp, d'un suivi optimal et d'un atout auto-focus pour une grande précision pendant l'analyse. Ce modèle avancé assure que les plaquettes restent carrées et centrées tout au long du balayage. L'outil dispose également d'une optique binaire pour isoler la lumière diffusée du masque. Son support de substrat de grande capacité est capable de traiter des plaquettes de 12 "et fournit des solutions automatisées de revêtement photorésist. Pour fournir la plus haute résolution d'image et permettre une plus large gamme de niveaux d'exposition, l'outil est également équipé d'un objectif de haute performance. Ce système réglable peut réduire la profondeur de focalisation tout en augmentant la précision de recouvrement. L'unité utilise également une machine de déviation laser de précision alimentée par une paire brevetée d'oscillateurs, permettant des chevauchements horizontaux à une précision de 0,50 micro-mètre près. Enfin, PAS 5500/400D est conçu pour un maximum de temps de disponibilité et de volume de production, avec un outil de diagnostic avancé qui fournit des informations sur l'état des outils en temps réel. Cela permet aux opérateurs d'évaluer facilement les performances de l'outil et de garder le contrôle total de la fenêtre de processus. Cet atout utilise également un modèle d'acquisition de données à grande vitesse pour réduire le temps de charge et augmenter le débit du modèle. Cet équipement offre une répétabilité et un débit inégalés pour l'excellence de la production.
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