Occasion ASML PAS 5500 / 60 #293817857 à vendre en France

ASML PAS 5500 / 60
Fabricant
ASML
Modèle
PAS 5500 / 60
ID: 293817857
i-Line Stepper Numerical Aperture (NA): 0.54 Resolution: 450 nm DCO: 85 Throughput (WPH): 56.
ASML 5500/60 est un marchepied de wafer pour l'industrie des semi-conducteurs. Il est capable d'exécuter des processus de lithographie avec une plus grande précision que ses prédécesseurs, tout en fournissant de plus grandes tailles de plaquettes et un débit plus élevé. Au cœur, 5500/60 est un équipement de projection optique de pointe conçu pour la photolithographie en ultraviolet profond (DUV). Il est composé de plusieurs composants qui travaillent ensemble pour créer le motif désiré d'une recette de lithographie sur une plaquette semi-conductrice. Au cœur du système se trouvent un stepper avancé, un ré-imageur et un sous-système de scanner. Le stepper est chargé de projeter le motif sur la plaquette avec une grande précision et précision. Il se compose de plusieurs composants, dont une source, des lentilles, une optique télécentrique, une unité d'étage de wafer et un réseau de portes programmables sur le terrain (FPGA). La source est une puissante lampe de projection DUV mercure-xénon qui émet de la lumière aux longueurs d'onde souhaitées pour la lithographie. Les lentilles sont conçues pour focaliser la lumière de la source sur le plan désiré avec une grande précision et précision. Les performances de l'optique télécentrique sont également cruciales pour assurer la réfraction, la réflexion et la transmission correcte de la lumière. La machine à étages de plaquettes contribue également à l'efficacité de l'outil en fournissant une plate-forme de mouvement stable qui peut positionner la plaquette avec précision et précision. Enfin, le FPGA intégré dans le stepper permet de programmer la recette sur l'actif en détail. Le ré-imageur et le scanner font tous deux partie du sous-système optique et ont pour tâche de focaliser la lumière de la source sur le plan désiré. Le ré-imageur est composé d'une colonne optique télécentrique, de correcteurs d'aberration quad et d'un ensemble de lentilles. Son rôle est de créer une image uniforme limitée par diffraction de la source sur la plaquette afin de maximiser la résolution et la précision de la lithographie. Les scanners, en revanche, sont composés d'une table de scanner, d'un jeu de lentilles octuples et d'un jeu de miroirs. Leur rôle est de créer un « balayage » de l'image à travers la plaquette afin de créer efficacement le motif. En général, l'ASML 5500/60 permet à l'industrie des semi-conducteurs de produire des produits avec encore plus de précision, de précision, de qualité et de débit que jamais auparavant. Sa capacité à contrôler avec précision et précision la lumière produite par sa source, ainsi que les composants optiques, permet des processus de lithographie plus sûrs et plus efficaces. Cela en fait un modèle imbattable pour une variété d'applications de semi-conducteurs.
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