Occasion ASML PAS 5500 / 700B #293817853 à vendre en France

ASML PAS 5500/ 700B wafer stepper est un outil de lithographie de haute précision utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. PAS 5500/ 700B intègre une optique haut de gamme, des fonctionnalités de conception et des logiciels spécialisés pour modeler avec précision la couche de conception sur une plaquette de silicium avec une résolution inférieure à 0,33 microns. L'équipement est basé sur le processus d'alignement et d'exposition lithographique standard de l'industrie. La colonne optique utilise la technologie de l'optique relais à ouverture alternée qui maximise la résolution de l'image tout en minimisant la distorsion provoquée par l'effet de la lumière hors axe. Le système est équipé de segments 4 canaux (4Cs) unité pour permettre l'exposition des caractéristiques à différents points focaux sur la plaquette. Cela permet à la machine de focaliser la lumière plus précisément et d'obtenir une résolution plus élevée dans une direction oblique. Le moteur du scanner, qui est le composant principal de l'outil, est très avancé et contrôle avec précision le mouvement linéaire X-Y de la plaquette. Il a une grande vitesse pour une exposition rapide et une grande précision pour une exposition précise tout en contrôlant les vibrations et la gigue. Le stepper comprend également plusieurs composants de sous-systèmes, dont l'actif d'illumination, l'étage réticulaire, le mandrin de plaquette, l'objectif d'imagerie et l'unité de contrôle d'image. Le modèle d'éclairage contient un ensemble respectif de lampes d'affichage, de condensateurs et de lampes à fente. En utilisant des logiciels spécialisés, ces composants sont utilisés pour fournir l'exposition précise des couches de conception. L'étage réticulaire est un étage de 6 degrés de liberté utilisé pour déplacer le masque dans la bonne direction et l'alignement et sur le plan focal pour améliorer la résolution. Le mandrin de la plaquette est chargé de maintenir la focalisation et la planéité de la surface de la plaquette afin d'assurer la répartition exacte de la lumière pendant l'émission. L'objectif d'imagerie est construit avec des matériaux spécialisés pour transmettre l'image sur le masque. Il contient un équipement de correction d'aberration pour assurer une faible distorsion. Enfin, l'unité de contrôle d'image (UCI) est chargée de contrôler le temps d'exposition global et les conditions pour assurer l'exposition exacte de la plaquette. Tous ces composants travaillent ensemble pour assurer une exposition répétée des images haute résolution sur la plaquette. Avec sa technologie haut de gamme, l'ASML PAS 5500/ 700B est idéal pour les fabricants de puces afin de permettre la production de composants performants.