Occasion ASML PAS 5500 / 750E #293829886 à vendre en France

ASML PAS 5500/ 750E est un pas de plaquette qui est utilisé pour donner un niveau de haute précision de photolithographie pendant le processus de production des semi-conducteurs. Il a la capacité d'atteindre un large éventail de résolutions, ce qui en fait un choix viable à différentes étapes de la production de IC (circuit intégré). Cette fonction de stepper est sa capacité à produire une largeur de ligne de 28nm et la plus petite résolution de 0,1 micron. PAS 5500/ 750E utilise une structure double axe, basée sur les coordonnées X et Y, pour réaliser des motifs pas à pas qui sont coupés dans la surface semi-conductrice. Cet équipement permet la mise en oeuvre d'un procédé de revêtement et de stratification, permettant à la fois de réaliser les procédés de tréfilage et de gravure en une seule machine. D'autres avantages de l'ASML PAS 5500/ 750E incluent la capacité d'augmenter progressivement la résolution jusqu'à 0,1 micron et le fait qu'il peut également tenir compte des corrections et des ajustements de la disposition des plaquettes de micro-niveau. PAS 5500/ 750E comprend un I-Source 248nm, un système d'alignement d'optique laser, des composants de scanner laser et une unité de projection. L'I-Source est un laser de haute puissance qui convient à la fois pour les modes de lithographie à contact doux et dur. Avec l'aide de miroirs d'éclairage et de scan du scanner laser, des clichés de plaquettes avec une grande uniformité peuvent être atteints. Ces lasers scanners et miroirs font partie intégrante du processus de lithographie. La machine de projection envoie un motif d'imagerie directement à la plaquette, où une exposition individuelle doit avoir lieu pour chaque prise de vue. L'outil permet d'interrompre un travail d'imagerie pour ajouter des clichés supplémentaires et de changer le nombre de clichés au fur et à mesure que le placement de la couche change. Il en va de même pour les motifs simples et multi-niveaux, ce qui permet une pile de lithographie compacte. ASML PAS 5500/ 750E est également équipé d'un interféromètre supérieur qui aide à maintenir l'alignement des miroirs dans les balayages laser. Cela garantit que la meilleure imagerie possible est réalisée, avec les meilleurs résultats économiques. En outre, l'actif est équipé d'un modèle de moteur haute performance La réponse de l'équipement moteur peut atteindre 0,2 ms, ce qui permet d'inscrire des motifs très précis et complexes dans la plaquette. Le système dispose également d'un stepper bi-mode, ce qui signifie que le piquage de vision bidimensionnel ou le mode de balayage unidimensionnel peuvent être utilisés pour localiser rapidement et avec précision les erreurs ou les modifications dans le motif. Toutes ces caractéristiques combinées font de PAS 5500/ 750E un choix fiable et économique pour la photolithographie de haute précision.