Occasion ASML PAS 5500 / 750F #293817856 à vendre en France

ASML PAS 5500/ 750F est une nouvelle génération de plaquettes de lithographie sans masque développée par ASML, leader technologique dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. C'est un équipement de lithographie d'immersion i-line haut de gamme, plein champ, destiné à la production de motifs IC aux nœuds de 45 nanomètres et en dessous. PAS 5500/ 750F est construit avec un certain nombre de fonctionnalités avancées pour garantir des performances optimales. Il dispose d'un NA de 150 nanomètres, d'un substrat enduit de silice fusionné Ohara (FSCS) pour une haute performance d'imagerie NA, d'un laser de 750 watts et d'un éclairage hors axe pour une meilleure profondeur de focalisation (DOF). Le haut-NA et l'éclairage robuste aident à imprimer une résolution plus élevée et des vias et des trous complexes dans la même exposition. Le système dispose également d'une capacité de zoom pour créer plusieurs tailles de champ différentes pour accueillir toutes les tailles de masque de 10mm x 10mm à 200mm x 200mm. L'ASML PAS 5500/ 750F est équipé d'une technologie d'imagerie de pointe pour garantir une précision de positionnement supérieure et des performances de recouvrement. Il est capable d'obtenir une précision de recouvrement maximale de +/- 5 microns et une précision de placement maximale de +/- 10 microns sur la tranche de 200 mm. Il dispose également d'un mode de balayage de raster à grande vitesse, d'une technologie de plan d'image tournant (RIP) et d'une unité de correction de mouvement. Ces caractéristiques permettent à la machine de scanner rapidement et avec précision les caractéristiques du masque à travers la plaquette. PAS 5500/ 750F est conçu pour réduire les défauts sur l'ensemble de la plaquette. Pour aider à réduire les erreurs de chargement et de déchargement du substrat, il dispose d'une unité d'alignement du substrat basée sur la caméra qui permet un alignement précis de la plaquette sur l'axe. Il dispose également d'un outil d'alignement actif pour aider à réduire les défauts de déformation et de désalignement des éléments. Les optiques d'exposition des plaquettes sont également construites avec des caractéristiques qui réduisent les déplacements de motifs, protégeant davantage la plaquette contre la contamination. ASML PAS 5500/ 750F est capable de répéter des caractéristiques avec des géométries complexes sans sacrifier la fidélité et la résolution des motifs. Il dispose également d'une source laser fiable et peu entretenue, permettant d'augmenter le temps de mise à jour avec une maintenance minimale. En outre, ses suites avancées de traitement d'image peuvent aider à identifier toute distorsion d'image qui est causée par l'aberration ou la vibration dans l'actif optique. En conclusion, PAS 5500/ 750F est un modèle de lithographie avancé qui crée des motifs de résolution supérieure avec une précision de placement supérieure, des performances de recouvrement, et la fidélité des motifs. Il est doté d'un NA élevé, de capacités de zoom, de diverses technologies d'imagerie et d'un alignement actif pour assurer une performance optimale et réduire les défauts.