Occasion ASML PAS 5500 / 80 #293591386 à vendre en France

Un ASML PAS 5500/80 est un équipement de lithographie de projection avancée par ASML avec un cadre supérieur à double armure. Il est utilisé pour projeter des images précises sur des substrats de plaquettes, typiquement pour fabriquer des puces semi-conductrices. Ce système comporte typiquement un ensemble de scanners codés, d'éléments optiques, d'actionneurs et de systèmes de commande qui permettent des étapes à ultrasons et à numérisation répétable. Les systèmes de lithographie de la série ASML PAS 5500/80 offrent jusqu'à 1,5 nanomètre de résolution, et peuvent exposer des surfaces avec une taille minimale de tache aussi petite que 30nm. Cette unité est livrée avec une plaque de phase de résolution 40nm et une machine ICOS 4.0 de technologie de lithographie par immersion UV, qui permet un débit élevé et une précision précise. En outre, la série PAS5500/80 offre une vitesse améliorée, l'optimisation des processus, et la précision lithographique contrairement à beaucoup d'autres systèmes. Ces capacités sont intégrées dans les noeuds 95nm, 80nm et 65nm. L'outil PAS 5500/80 est équipé d'une variété de composants optiques et de lasers, y compris des lentilles asphériques, des miroirs asphériques, des séparateurs de faisceau, des filtres dichroïques et des réseaux. Ces composants et lasers forment une combinaison intégrée d'optiques haute résolution, permettant aux utilisateurs d'obtenir un meilleur enregistrement des motifs, une meilleure capacité de ligne et de bord, et une meilleure uniformité de résolution. Outre les composants optiques et les lasers, la série ASML PAS5500/80 comprend également un laser hélium-néon et un boîtier optique à projection limitée par diffraction. Le laser hélium-néon permet une large gamme de décalages de longueur d'onde, et l'optique de projection limitée par diffraction peut augmenter l'imagerie réticule et diminuer à la fois l'aberration et la distorsion de la taille du spot. L'actif PAS 5500/80 contient également un contrôle opérateur indépendant qui peut être connecté à un écran d'ordinateur, afin de mieux gérer le modèle. Cette interface de commande est capable d'assurer la commande en boucle fermée, le balayage continu des étages et l'alignement, ainsi que de permettre la rotation, l'inclinaison et la focalisation de la partie du substrat nécessitant une exposition. La conception de la série ASML PAS 5500/80 est capable de maintenir des substrats de 300mm et 200mm, et peut gérer des températures de substrat allant de -40 ° C à + 90 ° C En outre, l'équipement dispose d'un codeur positionnel à double vue, qui fournit des résultats très précis en matière de recherche fiduciaire et d'alignement. En résumé, l'ASML PAS 5500/80 de l'ASML est un pas de plaquette de pointe qui a la capacité de projeter des images précises sur des substrats à des fins de fabrication de semi-conducteurs. Il est conçu avec une optique avancée et une variété de lasers, ainsi qu'un contrôle d'opérateur indépendant qui peut être connecté à un écran d'ordinateur. Les systèmes de lithographie de la série PAS5500/80 offrent jusqu'à 1,5 nanomètres de résolution, et peuvent exposer des surfaces avec une taille minimale de tache aussi petite que 30nm.