Occasion ASML PAS 5500 / 850D #293817847 à vendre en France

ASML PAS 5500 / 850D
Fabricant
ASML
Modèle
PAS 5500 / 850D
ID: 293817847
Stepper Numerical Aperture (NA): 0.55~0.80 DCO:  15 MMO: 25 Resolution: 110 nm Throughput (WPH): 145.
ASML PAS 5500/ 850D est un pas de plaquette de pointe conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et le traitement lithographique. Il dispose d'un équipement d'optique à deux étages avec une grande collection de configurations optionnelles facultatives qui permettent une large gamme de capacités d'imagerie de plaquettes. Le système utilise des composants optiques avancés qui permettent une grande précision et répétabilité, y compris la micro-lithographie, et l'exposition extrême à la lumière ultraviolette (EUV). La conception de l'unité en fait l'un des outils les plus efficaces et les plus puissants pour effectuer la lithographie, ce qui en fait une solution idéale pour les dispositifs semi-conducteurs exigeants. La machine de base est composée de deux étapes : une étape de balayage où le masque est balayé pour projeter le motif désiré et une étape d'exposition où la plaquette est exposée à la lumière UV à travers le masque. L'étage de mouvement à cinq axes de l'outil offre jusqu'à 1 micron de précision de mouvement, permettant un alignement précis du faisceau, même aux niveaux de résolution les plus élevés. L'actif utilise plusieurs fonctionnalités avancées pour améliorer la qualité de l'image et réduire le temps d'imagerie. Il dispose d'un photodétecteur ultra haute résolution, qui assure la collecte de données précises et le traitement ultérieur. Il dispose également d'une source lumineuse EUV robuste, capable de fournir l'énergie correcte pour l'imagerie à haut rapport d'aspect (HAR) et l'imagerie UV profonde. Un modèle de projection à cristaux liquides (LCD) fournit une rétroaction visuelle à l'opérateur, permettant un fonctionnement facile et des réglages pour assurer des résultats précis et reproductibles. L'équipement utilise des systèmes automatisés de manutention du matériel pour gérer les plaquettes et les masques tout au long des processus d'imagerie. Cela comprend des systèmes intégrés pour le chargement et le déchargement des plaquettes, ainsi que des robots pour transférer les échantillons et les masques au stade de l'exposition. En outre, des solutions logicielles complètes sont fournies pour contrôler, gérer et surveiller la gamme, la sélection des lentilles, le marquage, l'exposition et d'autres paramètres opérationnels. PAS 5500/ 850D est un outil polyvalent qui peut être utilisé dans de nombreuses applications différentes, telles que l'imagerie à masque unique, l'imagerie à double masque, les défis des plaquettes courtes, la superposition des motifs et bien d'autres. Le système est bien adapté aux environnements commerciaux, industriels et de recherche, fournissant des résultats rapides et précis pour aider dans les processus de lithographie complexes. Qu'il s'agisse de produire des puces à haute performance ou d'explorer de nouvelles capacités de lithographie, ASML PAS 5500/ 850D a la capacité de fournir.
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