Occasion ASML PAS 5500 #293830305 à vendre en France

ASML PAS 5500 est une étape et scan étape lithographique wafer. Il utilise la lumière laser produite par le procédé de lithographie EUV pour exposer une image de la plaquette sur une photomasque. Le masque est ensuite déplacé pour exposer différentes images sur la plaquette. Ce procédé permet la création de microcircuits complexes et très détaillés pour diverses applications. PAS 5500 est un navigateur matriciel/scanner polychromatique/système optique tout-en-un, contrôlé par plusieurs ordinateurs. Il contient huit lasers, chacun produisant 30 W de puissance, permettant une exposition de précision des segments de motifs. Les miroirs lithographiques peuvent se déplacer sur deux axes (x et y) avec une précision nanométrique. La plaquette est maintenue en place sur un étage semi-conducteur AlGaAs à une pression de 0,5 torr, permettant une gravure uniforme pendant le processus lithographique. ASML PAS 5500 utilise EUV-Lithographie longueur d'onde de 13,2 nanomètres (nm) afin de graver avec précision le motif sur la plaquette. EUV-Lithographie est un processus extrêmement précis, avec un champ d'écriture de seulement 5-15 nm, ce qui donne une taille de caractéristique minimale de seulement 20 nm. PAS 5500 est capable de produire des motifs multiples en une seule fois, avec un minimum de déchets. Il est également en mesure d'effectuer une lithographie hyper-échelle pour les zones à multiples caractéristiques, et un dépôt à haute résolution pour les dispositifs nécessitant une gravure plus fine. En outre, il peut effectuer la gravure multicouche et la lithographie nano-empreinte. ASML PAS 5500 a un design modulaire, permettant une personnalisation et un entretien facile. La table de masque est réglée à un angle de 60 degrés, ce qui réduit le temps et la complexité de l'échange de masques. Cela permet des changements rapides pendant la production, augmentant la productivité. PAS 5500 pas est optimisé pour la fabrication microélectronique, et est un moyen fiable et efficace de produire des circuits complexes sur des plaquettes. Sa faible empreinte et sa faible consommation électrique le rendent adapté à une large gamme d'environnements de fabrication.