Occasion ASML Twinscan AT 1100B #293810555 à vendre en France
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ID: 293810555
Taille de la plaquette: 8"-12"
ArF Scanner, 8"-12"
193 nm
STARLITH 1100 Lens 4x
(2) Reticle SMIF pods, 6"
CYMER NANOLITH 7000 Series ArF laser, 20 W.
L'ASML Twinscan AT 1100B est un premier équipement de lithographie étape-scan spécialement conçu pour la production avancée de dispositifs semi-conducteurs. Ce système étape-balayage est utilisé pour produire les composants les plus avancés utilisés dans l'industrie électronique. L'unité est conçue pour fournir une précision et une répétabilité inégalées dans le processus de lithographie. Twinscan AT 1100B utilise une machine à étages de plaquettes améliorée, avec une précision et une précision accrues qui utilise plus efficacement sa capacité de pas et de balayage. Cet outil d'étage de plaquettes est intégré à l'illuminateur de l'actif, qui est une source optique de forte puissance, générant un rayonnement laser à l'aide d'un laser au fluorure d'argon. Ce rayonnement laser atteint la surface d'une plaquette, créant des motifs pour des dispositifs pouvant atteindre 65 nanomètres. Le processus de lithographie est contrôlé par une série d'algorithmes logiciels sophistiqués, qui comprennent un modèle de gestion dynamique des foyers et une interface utilisateur graphique. L'équipement de gestion dynamique du foyer assure que le rayonnement laser reste au foyer et que les couches structurées sont projetées avec précision sur la plaquette. L'interface utilisateur graphique permet à l'utilisateur de manipuler facilement le processus de lithographie pour répondre aux besoins du dispositif en cours de réalisation. ASML Twinscan AT 1100B offre un certain nombre de fonctionnalités avancées qui en font une solution pas à pas puissante. Ces caractéristiques comprennent un système de mesure intégré, qui permet à l'utilisateur de mesurer rapidement et avec précision la précision du dispositif en cours de fabrication. De plus, l'unité est équipée d'une machine de contrôle de l'exposition avancée, qui permet aux utilisateurs de contrôler avec précision la microdose de rayonnement nécessaire pour modeler l'appareil. Twinscan AT 1100B est construit avec une précision reconnue, offrant des performances élevées. Cet outil est également incroyablement polyvalent ; il est capable d'utiliser différentes techniques d'exposition, de redimensionnement de motifs et de couture d'exposition pour produire des motifs avec plus de complexité et de précision. Cette capacité augmente le potentiel de production à haute performance avec un gaspillage minimal. Dans l'ensemble, l'ASML Twinscan AT 1100B est un puissant pas de plaquette de haute précision, idéal pour la production avancée de dispositifs semi-conducteurs. Cet atout offre une précision et une répétabilité inégalées grâce à sa capacité impressionnante de lithographie étape-balayage, à un logiciel sophistiqué et à un modèle de contrôle d'exposition avancé. Ses caractéristiques polyvalentes et ses performances exceptionnelles en font un choix privilégié pour toute installation de production de semi-conducteurs.
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