Occasion ASML Twinscan AT 1150 #9360853 à vendre en France

ASML Twinscan AT 1150 est un pas de plaquette avancé utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Il dispose d'un équipement de balayage partitionné composé de deux parties - un système de balayage primaire pour le balayage angulaire dans le plan x-y, et une unité de balayage secondaire pour le balayage linéaire selon l'axe z. Twinscan AT 1150 utilise un élément micro-optique diffractif pour améliorer la qualité de l'image de sortie. Il est équipé d'une machine de blindage pour éviter les dommages à l'optique pendant l'imagerie. L'ASML Twinscan AT 1150 a un grand champ de vision, avec une taille de champ maximale de 19 x 19 mils, et un écart de champ maximal de 0,05 mils. Il a une taille minimale de 2,5 nm, avec une tolérance minimale de 0,25 nm. Grâce à son élément micro-optique avancé, le pas dispose d'une ouverture numérique extrêmement élevée de 0,8, la plus large disponible. De plus, sa conception optique permet une imagerie simultanée à forte NA et à faible distorsion. Twinscan AT 1150 est conçu avec un débit de données impressionnant pouvant atteindre 500 wafers par heure. Il peut également être utilisé dans une variété d'environnements, de la norme au vide. Il est équipé d'un étage articulé, permettant des traductions à grande vitesse jusqu'à 10 m/s, et dispose d'un outil de mesure numérique intégré pour améliorer la précision et la précision. Le stepper est équipé de plusieurs systèmes d'éclairage avancés, avec une large gamme d'options pour la puissance, la longueur d'onde et l'intensité. Son logiciel interne de pointe permet un traitement algorithmique des images en chambre avancé et des décisions basées sur l'image. Il est également intégré à un atout d'alignement mondial pour assurer la précision des mesures sur une gamme d'échantillons de plaquettes. L'ASML Twinscan AT 1150 est un modèle très avancé conçu pour répondre aux exigences de l'industrie des semi-conducteurs en constante évolution. Avec son grand champ de vision, son ouverture numérique élevée et son débit de données rapide, il est un outil idéal pour les processus de réduction d'image et d'alignement. Ses systèmes d'éclairage sophistiqués et sa capacité de traitement d'image lui permettent de répondre efficacement aux exigences exigeantes du processus de fabrication.