Occasion ASML Twinscan AT 1150i #9112175 à vendre en France

ASML Twinscan AT 1150i est un stepper Wafer intégré conçu pour la lithographie photomasque-wafer. Il offre une optique puissante, un faible coût de possession, et une large gamme de capacités d'exposition pour les processus de lithographie les plus difficiles. Le stepper est équipé d'un équipement d'éclairage capable de fournir des champs d'exposition entièrement programmables, permettant une grande variété de formes lithographiques telles que des sources longues, des photomasques multi-niveaux et des masques haute résolution. Le système d'illumination est basé sur une unité optomécanique DUV, corrigeable pour les aberrations jusqu'au 4ème ordre, fournissant une ouverture numérique élevée (NA) de 0,72 et une taille de tache minimale aussi petite que 2,5 microns. Cette machine optique haute performance fournit une excellente résolution et une profondeur de focalisation, permettant à l'étape de relever les défis de processus les plus avancés de façon rentable. En outre, l'outil optique de Twinscan AT 1150i est capable de supporter une précision de recouvrement de 0,3 microns en utilisant à la fois l'interférométrie standard et des techniques avancées de reconnaissance de motifs complexes. L'ASML Twinscan AT 1150i est composé d'une variété de systèmes critiques, dont un auto-aligneur, une lentille de microprojection, un contrôleur pas à pas, une plate-forme de balayage de plaquettes et un étage de plaquettes. L'auto-alignement assure un alignement précis des profils d'exposition pendant le processus de lithographie. La lentille de microprojection est capable de produire des images de haute qualité avec une résolution allant jusqu'à 0,6 microns, tandis que le contrôleur d'étape gère la résolution d'exposition et l'intensité lumineuse d'une manière hautement optimisée. La plate-forme de balayage des plaquettes prend en charge les modes d'exposition mono-masque et multi-masque, permettant à la fois un débit élevé et une répétabilité élevée. Enfin, l'étage de plaquette est capable d'assurer un positionnement et un alignement précis de la plaquette par rapport au masque et aux fenêtres d'exposition. Twinscan AT 1150i dispose d'une suite logicielle puissante, conçue pour fournir un processus de lithographie automatisé et optimisé sur une variété de substrats et de tailles de plaquettes. L'atout comprend des commandes logicielles intuitives et conviviales, qui permettent aux opérateurs d'effectuer des modifications de processus rapidement et efficacement. Cette étape fournit des recettes prédéfinies à base de recettes pour une variété d'applications de lithographie, permettant une mise en œuvre rapide dans le processus de production. L'ASML Twinscan AT 1150i est également livré avec des capacités diagnostiques intuitives, qui permettent aux opérateurs d'identifier et de traiter rapidement tout problème potentiel dans le processus de lithographie. En résumé, Twinscan AT 1150i est un pas de plaquette de haute performance qui fournit une large gamme d'options de lithographie avancées pour les besoins d'application les plus exigeants. Il est doté d'une optique puissante, de commandes logicielles robustes et d'un étalonnage automatisé des processus. Le modèle est une solution idéale pour des processus de lithographie rentables et efficaces.