Occasion ASML Twinscan AT 1150i #9112177 à vendre en France

L'ASML Twinscan AT 1150i est un équipement de gradins ultraviolets extrêmes (EUV) utilisé dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Adapté aux applications avancées de lithographie, le système offre un débit, une répétabilité et une précision élevés. Il est capable d'une résolution de 32nm et des tailles de faisceau jusqu'à 40µm. Twinscan AT 1150i a un design en forme de cube avec trois axes mobiles, individuellement synchronisés. Les axes X et Y permettent un mouvement pas à pas et un repositionnement dans le champ et l'axe Z fournit un support de focalisation. Le stepper est équipé d'une unité d'alignement à pompe laser (LPA) et d'un laser sans contact intégré pour le réglage de position. Le stepper dispose d'un scanner volant par obturateur multi-segments qui offre une taille de champ pouvant atteindre 14 mm x 14 mm. La machine à scanner fonctionne en obturateur continu, ce qui signifie qu'elle peut exposer tout un champ sans s'arrêter. Cela permet une exposition précise et la récupération des données en un seul balayage. L'outil de numérisation ASML Twinscan AT 1150i est intégré à la technologie de contrôle Photolitho-RotationMD (PLRMD) de pointe de l'ASML. Cette technologie permet de contrôler le positionnement avec une précision de niveau micron et peut réduire les erreurs de positionnement jusqu'à 50 %. L'optique du stepper est conçue pour créer un faisceau EUV d'une longueur d'onde de 13,5 nm. Ce faisceau est corrigé optiquement et dirigé par un ensemble de lentilles de condenseur asphérique sans distorsion. Ces lentilles créent un faisceau EUV court-circulaire uniformément réparti, qui assure un éclairage précis de la cible. Afin d'obtenir une plus grande précision, le stepper dispose d'un générateur de retard numérique à haute cadence (DG). Le DG peut générer des longueurs d'impulsions allant de 200fsec à 4e-6sec avec jusqu'à 1 picoseconde de précision. Twinscan AT 1150i est livré avec un atout automatisé, auto-calibrant de simulation d'alimentation, qui aide à maximiser le débit efficace et la précision. Ce modèle peut générer de multiples expositions en une seule configuration et les aligner dans les plus brefs délais. L'algorithme de simulation d'alimentation peut également être adapté aux besoins individuels de l'utilisateur. L'ASML Twinscan AT 1150i est adapté à une large gamme d'applications personnalisées. Il supporte de multiples techniques d'exposition, permettant une variété de configurations de faisceau. En outre, le stepper dispose d'un équipement spécialisé de manipulation des réticules qui permet à l'utilisateur de changer rapidement et avec précision les réticules. Twinscan AT 1150i est une solution idéale pour toute photolithographie avancée. Avec sa polyvalence, ses caractéristiques avancées et sa précision remarquable, le système peut fournir des solutions lithographiques complètes aux clients des secteurs tant du consommateur que de l'industrie.