Occasion ASML Twinscan NXT 2100i #293817834 à vendre en France
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ID: 293817834
Lithography system
Numerical Aperture (NA): 1.35
Resolution: ≤38 nm
DCO: 0.9
MMO: 1.3
Throughput (WPH): 295.
L'ASML Twinscan NXT 2100i est un équipement avancé de gradins conçu pour les procédés de lithographie à semi-conducteurs de pointe. Composant essentiel de l'industrie des semi-conducteurs, le NXT 2100i joue un rôle central dans la réalisation de circuits intégrés (IC) de pointe avec une haute résolution et précision. Le NXT 2100i se caractérise par sa technologie innovante et ses capacités à haut débit, ce qui en fait un choix privilégié pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir une productivité et un rendement élevés dans leurs processus de production. Ce système est conçu pour répondre aux exigences de lithographie les plus exigeantes pour les nœuds avancés, offrant des performances et une fiabilité exceptionnelles. Une des caractéristiques clés de la NXT 2100i est son optique d'imagerie avancée, qui permet à l'unité d'atteindre une haute résolution et fidélité de motif sur la plaquette. La machine exploite des sources d'éclairage et des optiques de projection de pointe pour produire des images de haute qualité avec un minimum d'aberrations et de distorsions. Cela garantit que les motifs imprimés sur la plaquette sont précis et cohérents, répondant aux exigences strictes des procédés semi-conducteurs avancés. En plus de ses capacités d'imagerie, le NXT 2100i est équipé d'un outil d'alignement sophistiqué qui permet un contrôle précis de la superposition pendant le processus de lithographie. L'actif utilise des marques d'alignement avancées sur la plaquette pour assurer un alignement correct entre les différentes couches de motifs, permettant la production de dispositifs semi-conducteurs complexes avec plusieurs couches de circuiterie. Ce contrôle de recouvrement précis est essentiel pour atteindre des tolérances de conception serrées et assurer l'intégrité fonctionnelle des CI en cours de fabrication. Le NXT 2100i est également équipé d'un modèle d'étage à grande vitesse qui permet un positionnement rapide et précis de la plaquette pendant l'exposition. L'étage de l'appareil est capable de déplacer la plaquette avec une précision sous-nanométrique, permettant l'impression de caractéristiques fines avec une distorsion minimale. Ce système d'étages à grande vitesse contribue au débit et à la productivité de l'unité, permettant aux fabricants de semi-conducteurs d'atteindre des volumes de production élevés tout en maintenant une qualité et un rendement élevés. Une autre caractéristique clé de la NXT 2100i est son logiciel de contrôle avancé, qui fournit des capacités complètes pour la surveillance des processus, l'optimisation et l'automatisation. Le logiciel de la machine est conçu pour permettre un suivi en temps réel des processus de lithographie, permettant des réglages et des corrections rapides pour garantir des performances optimales. De plus, le logiciel comprend des algorithmes avancés pour optimiser les paramètres d'exposition, minimiser les variations de processus et maximiser le rendement. Dans l'ensemble, Twinscan NXT 2100i est un outil de pointe qui offre des performances et une fiabilité inégalées pour les applications avancées de lithographie à semi-conducteurs. Avec ses optiques d'imagerie avancées, ses capacités d'alignement précises, son atout pour les étages rapides et son logiciel de contrôle avancé, le NXT 2100i est un outil polyvalent et efficace pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à produire des IC de haute qualité avec des technologies de pointe.
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