Occasion ASML Twinscan NXT 870 #293817831 à vendre en France

ASML Twinscan NXT 870
ID: 293817831
KrF Lithography system Numerical Aperture (NA): 0.55-0.8 Resolution: 110 nm DCO: ≤7.5 Throughput (WPH): 330.
L'ASML Twinscan NXT 870 est un équipement de pointe conçu pour les procédés avancés de lithographie des semi-conducteurs. Il fait partie de la plateforme ASML Twinscan NXT, connue pour sa précision, sa fiabilité et ses capacités de contrôle des processus. Ce système représente un progrès significatif dans la technologie de fabrication de semi-conducteurs, offrant des performances de pointe de l'industrie pour la production à haut volume de circuits intégrés. Au cœur de Twinscan NXT 870 se trouve son objectif de projection avancé, qui joue un rôle crucial pour atteindre la haute résolution et la précision requises pour la lithographie semi-conductrice submicronique. La machine est équipée d'un outil d'éclairage ultramoderne qui assure une exposition uniforme et contrôlée de la plaquette, assurant un tissage constant sur toute la surface. Cet atout optique de pointe permet au NXT 870 d'obtenir une résolution et une précision de recouvrement remarquables, répondant aux exigences strictes des nœuds de technologie avancée. Une des caractéristiques clés de l'ASML Twinscan NXT 870 est sa capacité à supporter plusieurs modes d'imagerie, y compris l'immersion et la lithographie non-immersion. Cette flexibilité permet aux fabricants de semi-conducteurs de choisir le meilleur mode d'imagerie pour leurs exigences de processus spécifiques, maximisant les performances et le rendement du processus. Le modèle est également équipé de capacités avancées d'alignement et de nivellement des plaquettes, assurant un alignement précis de la plaquette pendant l'exposition et minimisant les erreurs de recouvrement. En termes de débit, le Twinscan NXT 870 offre des gains de productivité impressionnants par rapport aux générations précédentes de marchands de plaquettes. L'équipement est doté d'un étage de plaquette à grande vitesse et d'une technologie avancée de manutention des réticules, permettant un échange rapide des plaquettes et une réduction des temps de cycle. Ces gains de productivité contribuent à augmenter le débit global des plaquettes et à améliorer l'efficacité de fabrication, faisant du NXT 870 un choix idéal pour les environnements de production à haut volume. En outre, l'ASML Twinscan NXT 870 intègre des capacités avancées de contrôle de processus qui permettent aux fabricants de semi-conducteurs d'obtenir un contrôle de processus plus strict et un rendement plus élevé. Le système est équipé d'outils sophistiqués de métrologie et de surveillance qui fournissent des retours en temps réel sur la performance du processus, permettant d'affiner les paramètres de lithographie et d'optimiser le processus. Cette capacité complète de contrôle des processus garantit des résultats de mise en oeuvre cohérents et fiables, essentiels pour satisfaire aux normes de qualité strictes de la fabrication de semi-conducteurs. Du point de vue de la fiabilité, Twinscan NXT 870 est conçu avec robustesse et disponibilité. L'unité dispose d'une architecture modulaire qui permet un entretien facile et le remplacement des composants, minimisant les temps d'arrêt de la machine et améliorant la disponibilité globale de l'outil. Le réseau complet de service et de support ASML assure également que les clients reçoivent une assistance et une maintenance en temps opportun pour maintenir le fonctionnement de l'actif à des performances maximales. En conclusion, l'ASML Twinscan NXT 870 représente le sommet de la technologie des gradins, offrant des performances, une précision et une fiabilité inégalées pour une lithographie semi-conductrice avancée. Avec son modèle avancé d'objectif de projection, les modes d'imagerie, les améliorations de productivité, les capacités de contrôle des processus et les caractéristiques de fiabilité, le NXT 870 est l'équipement de choix pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à repousser les limites de la technologie des semi-conducteurs et à atteindre le niveau suivant de performance et d'intégration des appareils.
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