Occasion ASML Twinscan XT 1250D #293820026 à vendre en France

ASML Twinscan XT 1250D est un pas de plaquette conçu pour la fabrication de plaquettes semi-conductrices. C'est un équipement de lithographie ultra haute résolution qui fournit une taille d'image de 890 nm dans le plan X-Y. Ce système utilise des sources d'éclairage actiniques typiques, comme le laser, pour écrire des motifs sur la plaquette semi-conductrice, et peut produire des caractéristiques jusqu'à 60 nm. Il est capable de produire un motif optique unique en résistance tant négative que positive. ASML TWINSCAN XT:1250D est équipé d'un générateur, d'un contrôleur et d'un logiciel haute performance pour une tâche de lithographie optimale. Il dispose d'un miroir hors axe de 48 pouces et d'une lentille de champ standard de 8 pouces. La machine optique est basée sur l'optique de projection et utilise l'outil catadioptrique, ce qui garantit une aberration d'image minimale. L'optique de projection a une capacité d'imagerie allant de 175 mm à 5 mm, ce qui lui permet d'écrire différents types de motifs sur la plaquette. TWINSCAN XT 1250 D est conçu pour traiter une variété de substrats tels que le verre, les films métalliques et les substrats de quartz. Il a un scanner 12 canaux qui est utilisé pour contrôler le mouvement de la plaquette à travers le champ de lithographie. Cet actif est capable de focaliser jusqu'à 10 000 um par seconde et peut également gérer la suppression de l'exposition et la correction du modèle. L'ASML TWINSCAN XT 1250 D est également équipé d'un modèle avancé de balayage sans diffusion qui contribue à augmenter le temps d'exposition tout en équilibrant les caractéristiques de l'image ionique. Son équipement de chauffage à profil bas assure une température uniforme à la surface de la plaquette, réduisant la résistance à l'inclinaison et augmentant la précision d'exposition. Le mandrin électrostatique avancé intégré aide à maintenir une pression constante sur la plaquette, permettant un alignement rapide et précis. En plus, TWINSCAN XT:1250D est muni avec une haute chambre de processus de performance, qui est capable d'efficacement dissiper du gaz, du liquide et une chaleur dans une manière contrôlée de réduire la contamination et maximiser l'uniformité. Il dispose également d'une source ionique étroite de bande passante pour améliorer la qualité du motif. Il s'agit d'un système hautement automatisé qui offre un haut degré de contrôle des processus, ainsi qu'un ordonnancement automatisé des sous-champs, ce qui offre un débit et une répétabilité élevés.