Occasion ASML Twinscan XT 1460K #293811716 à vendre en France

ASML Twinscan XT 1460K est un outil de pointe utilisé dans l'industrie de la fabrication des semi-conducteurs. Il est conçu et fabriqué par ASML, un fournisseur leader d'équipements et de solutions de lithographie pour l'industrie des semi-conducteurs. Twinscan XT 1460K est l'un des modèles avancés d'ASML dans leur série Twinscan XT, connu pour ses capacités de haute performance et sa précision dans la création de circuits intégrés sur plaquettes de silicium. Principales caractéristiques et capacités : 1. Techniques d'amélioration de la résolution (RET) : L'ASML Twinscan XT 1460K offre des techniques avancées d'amélioration de la résolution pour obtenir la résolution sous-nanométrique requise pour la production de dispositifs semi-conducteurs de pointe. Cela comprend des techniques telles que la correction optique de proximité (OPC), les masques à déphasage (PSM) et d'autres méthodes de lithographie par calcul pour améliorer la fidélité des motifs et le contrôle des dimensions critiques. 2. Ouverture numérique (NA) : Twinscan XT 1460K est équipé d'une lentille haute NA qui permet d'améliorer la résolution et la profondeur de mise au point. Le NA élevé permet au marchepied d'afficher des caractéristiques plus petites sur la plaquette avec une plus grande précision, ce qui conduit à une plus grande fidélité des motifs et à un contrôle plus strict des processus. 3. Lithographie d'immersion : Le XT 1460K utilise la technologie de lithographie d'immersion, où un milieu liquide (habituellement de l'eau) est utilisé entre la lentille et la plaquette pour améliorer la puissance de résolution du système optique. La lithographie par immersion permet à l'étape d'obtenir une plus grande résolution et une fidélité au transfert de motifs, en particulier pour les nœuds de technologie avancée. 4. Utilisation multiple : Le XT 1460K prend en charge de multiples techniques de fabrication telles que la litho-etch-litho-etch (LELE) et la double impression auto-alignée (SADP) pour surmonter les limites de la lithographie à exposition unique dans l'impression de motifs denses avec des rapports d'aspect élevés et des emplacements serrés. La configuration multiple améliore la capacité du stepper à produire des mises en page complexes avec des fonctionnalités de sous-longueur d'onde. 5. Haut débit : L'ASML Twinscan XT 1460K est conçu pour des environnements de fabrication à haut volume et offre un débit de plaquettes rapide pour répondre aux exigences de production des fabricants de semi-conducteurs. Il est doté d'une unité de scène robuste, d'algorithmes avancés d'alignement des plaquettes et de séquences d'exposition optimisées pour maximiser la productivité tout en maintenant un excellent contrôle de la superposition et de la focalisation. 6. Contrôle de superposition et d'alignement : Le XT 1460K intègre des mécanismes d'alignement et de contrôle de superposition avancés pour assurer l'enregistrement précis de plusieurs couches de conception sur la plaquette. Il utilise des capteurs sophistiqués, des boucles de rétroaction et des routines d'étalonnage pour obtenir une précision de recouvrement des sous-nanomètres et minimiser les erreurs de désalignement des motifs pendant l'exposition. 7. Manutention et gestion des réticules : Le XT 1460K comprend une machine de gestion des réticules qui permet un chargement, un alignement et un échange efficaces des réticules pendant l'exposition des plaquettes. Le stepper est conçu pour gérer plusieurs types de réticules, y compris les technologies binaires, de déphasage et de réticules de pointe, pour soutenir diverses applications et processus de lithographie. Dans l'ensemble, Twinscan XT 1460K wafer stepper représente un outil de lithographie de pointe pour les fabricants de semi-conducteurs cherchant à repousser les limites de Moor's Law et à produire des appareils électroniques de pointe avec la plus grande précision et fiabilité. Ses fonctionnalités avancées, ses capacités de résolution et ses performances de débit en font un outil extrêmement polyvalent et indispensable pour fabriquer des dispositifs semi-conducteurs avancés dans l'industrie des semi-conducteurs compétitive d'aujourd'hui.