Occasion ASML Twinscan XT 1460K #293817833 à vendre en France
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ID: 293817833
ArF Scanner
Numerical Aperture (NA): 0.65-0.93
Resolution: 65 nm
DCO: 3.5
MMO: 5
Throughput (WPH): 205.
ASML Twinscan XT 1460K est un pas de plaquette de pointe qui joue un rôle critique dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. L'un des systèmes de lithographie les plus avancés disponibles aujourd'hui, cet outil est conçu pour permettre la production de circuits intégrés (IC) de haute qualité avec une précision et une efficacité exceptionnelles. Avec une myriade de fonctionnalités et de capacités innovantes, le XT 1460K représente la prochaine génération de technologie de lithographie semi-conductrice. Au cœur de Twinscan XT 1460K se trouve son équipement optique de pointe, spécifiquement optimisé pour obtenir des performances d'imagerie inégalées. Ce système exploite une conception de lentille sophistiquée, associée à des techniques d'éclairage de pointe, pour s'assurer que les motifs sont correctement transférés de la photomasque à la surface de la plaquette. Le XT 1460K est équipé d'une lentille haute ouverture numérique (NA), permettant la projection de caractéristiques de plus en plus petites sur la plaquette avec une résolution et une fidélité remarquables. De plus, le XT 1460K intègre un mandrin à double étage, qui permet un positionnement et un alignement précis de la plaquette lors du processus d'exposition. Cette configuration en deux étapes améliore la stabilité et la précision de l'ensemble de la machine, garantissant le transfert des motifs sur la plaquette avec la plus grande précision. De plus, le XT 1460K dispose de capacités avancées d'alignement et de nivellement des plaquettes, qui sont essentielles pour assurer une précision optimale de recouvrement et d'enregistrement sur plusieurs couches du CI. L'un des atouts clés de la XT 1460K est sa capacité à supporter de multiples techniques de balisage, telles que le double balisage et le quadruple balisage, qui sont essentielles pour la fabrication de conceptions IC avancées avec des tailles de caractéristiques en retrait. En utilisant des algorithmes de calcul sophistiqués et des routines d'optimisation, le XT 1460K peut générer des schémas de calcul complexes qui maximisent la résolution et la fidélité des motifs de la mise en page IC finale. Cette capacité est cruciale pour répondre aux demandes toujours croissantes de densités de circuits plus élevées et de performances améliorées dans les dispositifs semi-conducteurs modernes. En outre, le XT 1460K dispose d'un outil de contrôle avancé qui permet une manipulation rapide des plaquettes et un débit efficace. Cet atout est conçu pour minimiser les temps de cycle de la tranche à la tranche, améliorant ainsi la productivité globale du processus de lithographie. Le XT 1460K dispose également d'un ensemble complet d'outils logiciels pour la création de recettes, la surveillance des processus et la maintenance de l'équipement, permettant aux utilisateurs de rationaliser leurs opérations et d'optimiser les performances du modèle. En conclusion, l'ASML Twinscan XT 1460K représente un sommet de la technologie de lithographie semi-conductrice, offrant des performances d'imagerie inégalées, un alignement de précision et des capacités de frappe avancées. Avec son design innovant et ses caractéristiques robustes, le XT 1460K est prêt à révolutionner la fabrication des IC de nouvelle génération, permettant aux entreprises de semi-conducteurs de repousser les limites de la technologie et de livrer des appareils de pointe sur le marché.
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